陜西桌面無掩模光刻機讓你隨意進行納米圖案化

Polos系列通過無掩模技術(shù)減少化學廢料產(chǎn)生，同時低能耗設(shè)計（如固態(tài)激光光源）符合綠色實驗室標準。例如，其光源系統(tǒng)較傳統(tǒng)DUV光刻機能耗降低30%，助力科研機構(gòu)實現(xiàn)碳中和目標。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù)，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小，非常適合研究實驗室，并broad應(yīng)用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領(lǐng)域，為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。微流體領(lǐng)域：支持 1-100μm 微通道定制，助力organ芯片血管網(wǎng)絡(luò)precise建模。陜西桌面無掩模光刻機讓你隨意進行納米圖案化

Polos-BESM在電子器件原型開發(fā)中展現(xiàn)高效性。例如，其軟件支持GDS文件直接導入，多層曝光疊加功能簡化了射頻器件（如IDC電容器）的制造流程。研究團隊利用同類設(shè)備成功制備了高頻電路元件，驗證了其在5G通信和物聯(lián)網(wǎng)硬件中的潛力。無掩模光刻技術(shù)可以隨意進行納米級圖案化，無需使用速度慢且昂貴的光罩。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協(xié)的情況下，將該技術(shù)帶到了桌面上，進一步提升了其優(yōu)勢。無掩模光刻技術(shù)可以隨意進行納米級圖案化，無需使用速度慢且昂貴的光罩。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協(xié)的情況下，將該技術(shù)帶到了桌面上，進一步提升了其優(yōu)勢。安徽POLOSBEAM光刻機基材厚度可達到0.1毫米至8毫米亞微米級精度：0.8 μmmost小線寬，支持高精度微流體芯片與MEMS器件制造。

在organ芯片研究中，模擬人體organ微環(huán)境需要微米級精度的三維結(jié)構(gòu)。德國 Polos 光刻機憑借無掩模激光光刻技術(shù)，幫助科研團隊在 PDMS 材料上構(gòu)建出仿生血管網(wǎng)絡(luò)與組織界面。某再生醫(yī)學實驗室使用 Polos 光刻機，成功制備出肝芯片微通道，其內(nèi)皮細胞黏附率較傳統(tǒng)方法提升 40%，且可通過軟件實時調(diào)整通道曲率，precise模擬肝臟血流動力學。該技術(shù)縮短了organ芯片的研發(fā)周期，為藥物肝毒性測試提供了更真實的體外模型，相關(guān)成果入選《自然?生物技術(shù)》年度創(chuàng)新技術(shù)案例。

某材料實驗室利用 Polos 光刻機的亞微米級圖案化能力，在鋁合金表面制備出仿荷葉結(jié)構(gòu)的超疏水涂層。其激光直寫技術(shù)在 20μm 間距的微柱陣列上疊加 500nm 的納米脊，使材料表面接觸角達 165°，滾動角小于 3°。該涂層在海水環(huán)境中浸泡 30 天后，防腐蝕性能較未處理表面提升 10 倍。其靈活的圖案編輯功能還支持在同一樣品上實現(xiàn)超疏水與超親水區(qū)域的任意組合，被用于微流控芯片的液滴定向輸運，液滴驅(qū)動電壓降低至傳統(tǒng)方法的 1/3。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù)，用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件，開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成，操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小，非常適合研究實驗室，并broad應(yīng)用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領(lǐng)域，為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。德國 SPS Polos：深耕微納加工 35 年，專注半導體與生命科學領(lǐng)域，全球布局 6 大技術(shù)中心，服務(wù) 500 + 科研機構(gòu)。

Polos光刻機在微機械加工中表現(xiàn)outstanding。其亞微米分辨率可制造80 μm直徑的開環(huán)諧振器和2 μm叉指電極，適用于傳感器與執(zhí)行器開發(fā)。結(jié)合雙光子聚合技術(shù)（如Nanoscribe系統(tǒng)），用戶還能擴展至3D微納結(jié)構(gòu)打印，為微型機器人及光學元件提供多尺度制造方案。無掩模光刻技術(shù)可以隨意進行納米級圖案化，無需使用速度慢且昂貴的光罩。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協(xié)的情況下，將該技術(shù)帶到了桌面上，進一步提升了其優(yōu)勢。POLOS μ 光刻機：桌面級設(shè)計，2-23μm 可調(diào)分辨率，兼容 4 英寸晶圓，微機電系統(tǒng)加工誤差 < 5μm。黑龍江德國桌面無掩模光刻機分辨率1.5微米

柔性電子：曲面 OLED 驅(qū)動電路漏電降 70%，彎曲半徑達 1mm，適配可穿戴設(shè)備。陜西桌面無掩模光刻機讓你隨意進行納米圖案化

德國 Polos 光刻機系列是電子學領(lǐng)域不可或缺的精密設(shè)備。其無掩模激光光刻技術(shù)，讓電路圖案曝光不再受限于掩模，能夠?qū)崿F(xiàn)超高精度的圖案繪制。在芯片研發(fā)過程中，Polos 光刻機可precise刻畫出納米級別的電路結(jié)構(gòu)，為芯片性能提升奠定基礎(chǔ)。? 科研團隊使用 Polos 光刻機，成功開發(fā)出更高效的集成電路，降低芯片能耗，提高運算速度。而且，該光刻機可輕松輸入任意圖案，滿足不同電子元件的多樣化設(shè)計需求。無論是新型傳感器的電路制作，還是微型處理器的研發(fā)，Polos 光刻機都能以高精度、低成本的優(yōu)勢，為電子學領(lǐng)域的科研成果產(chǎn)出提供有力保障，推動電子技術(shù)不斷創(chuàng)新。陜西桌面無掩模光刻機讓你隨意進行納米圖案化