微納衛(wèi)星對部件重量與精度要求苛刻,傳統(tǒng)加工難以兼顧。Polos 光刻機(jī)在硅基材料上實(shí)現(xiàn)了 50nm 深度的微溝槽加工,為某航天團(tuán)隊(duì)制造出輕量化星載慣性導(dǎo)航陀螺結(jié)構(gòu)。通過自定義螺旋型振動梁圖案,陀螺的零偏穩(wěn)定性提升至 0.01°/h,較商用產(chǎn)品性能翻倍。該技術(shù)還被用于微推進(jìn)器噴嘴陣列加工,使衛(wèi)星姿態(tài)調(diào)整精度達(dá)到亞毫牛級,助力我國低軌衛(wèi)星星座建設(shè)取得關(guān)鍵突破。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實(shí)驗(yàn)室,并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域,為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會。全球產(chǎn)業(yè)鏈整合:德國精密制造背書,與Lab14集團(tuán)共推光通信芯片封裝技術(shù)。黑龍江德國POLOS桌面無掩模光刻機(jī)讓你隨意進(jìn)行納米圖案化
一家專注于再生醫(yī)學(xué)的科研公司在組織工程支架的研究上,使用德國 Polos 光刻機(jī)取得remarkable成果。組織工程支架需要具備特定的三維結(jié)構(gòu),以促進(jìn)細(xì)胞的生長和組織的修復(fù)。Polos 光刻機(jī)能夠根據(jù)預(yù)先設(shè)計(jì)的三維模型,在生物可降解材料上精確制造出復(fù)雜的孔隙結(jié)構(gòu)和表面圖案。通過該光刻機(jī)制造的支架,在動物實(shí)驗(yàn)中表現(xiàn)出優(yōu)異的細(xì)胞黏附和組織生長引導(dǎo)能力。與傳統(tǒng)制造方法相比,使用 Polos 光刻機(jī)生產(chǎn)的支架,細(xì)胞在其上的增殖速度提高了 50%,為組織工程和再生醫(yī)學(xué)的臨床應(yīng)用提供了有力支持。遼寧POLOSBEAM光刻機(jī)可以自動聚焦波長環(huán)保低能耗設(shè)計(jì):固態(tài)光源能耗較傳統(tǒng)設(shè)備降低30%,符合綠色實(shí)驗(yàn)室標(biāo)準(zhǔn)。
在科研領(lǐng)域,設(shè)備的先進(jìn)程度往往決定了研究的深度與廣度。德國的 Polos - BESM、Polos - BESM XL、SPS 光刻機(jī) POLOS μ 帶來了革新之光。它們運(yùn)用無掩模激光光刻技術(shù),摒棄了傳統(tǒng)光刻中昂貴且制作周期長的掩模,極大降低了成本。這些光刻機(jī)可輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光,在微流體、電子學(xué)和納 / 微機(jī)械系統(tǒng)等領(lǐng)域大顯身手。例如在微流體研究中,能precise制造復(fù)雜的微通道網(wǎng)絡(luò),助力藥物傳輸、細(xì)胞培養(yǎng)等研究。在電子學(xué)方面,可實(shí)現(xiàn)高精度的電路圖案曝光,為芯片研發(fā)提供有力支持。其占用空間小,對于空間有限的研究實(shí)驗(yàn)室來說堪稱完美。憑借出色特性,它們已助力眾多科研團(tuán)隊(duì)取得成果,成為科研創(chuàng)新的得力助手 。
在微流體研究領(lǐng)域,德國 Polos 光刻機(jī)系列憑借獨(dú)特優(yōu)勢脫穎而出。其無掩模激光光刻技術(shù),打破傳統(tǒng)光刻的局限,無需掩模就能實(shí)現(xiàn)高精度圖案制作。這使得科研人員在構(gòu)建微通道網(wǎng)絡(luò)時,可根據(jù)實(shí)驗(yàn)需求自由設(shè)計(jì),快速完成從圖紙到實(shí)體的轉(zhuǎn)化。?以藥物傳輸研究為例,利用 Polos 光刻機(jī),能制造出尺寸precise、結(jié)構(gòu)復(fù)雜的微通道,模擬人體環(huán)境,讓藥物在微小空間內(nèi)可控流動,much提升藥物傳輸效率研究的準(zhǔn)確性。同時,在細(xì)胞培養(yǎng)實(shí)驗(yàn)中,該光刻機(jī)制作的微流體芯片,為細(xì)胞提供穩(wěn)定且適宜的生長環(huán)境,助力細(xì)胞生物學(xué)研究取得新突破。小空間大作為的 Polos 光刻機(jī),正推動微流體研究不斷向前。能源收集:微型壓電收集器效率 35%,低頻振動發(fā)電支持無源物聯(lián)網(wǎng)。
德國 Polos 光刻機(jī)系列是電子學(xué)領(lǐng)域不可或缺的精密設(shè)備。其無掩模激光光刻技術(shù),讓電路圖案曝光不再受限于掩模,能夠?qū)崿F(xiàn)超高精度的圖案繪制。在芯片研發(fā)過程中,Polos 光刻機(jī)可precise刻畫出納米級別的電路結(jié)構(gòu),為芯片性能提升奠定基礎(chǔ)。? 科研團(tuán)隊(duì)使用 Polos 光刻機(jī),成功開發(fā)出更高效的集成電路,降低芯片能耗,提高運(yùn)算速度。而且,該光刻機(jī)可輕松輸入任意圖案,滿足不同電子元件的多樣化設(shè)計(jì)需求。無論是新型傳感器的電路制作,還是微型處理器的研發(fā),Polos 光刻機(jī)都能以高精度、低成本的優(yōu)勢,為電子學(xué)領(lǐng)域的科研成果產(chǎn)出提供有力保障,推動電子技術(shù)不斷創(chuàng)新。圖案靈活性:支持 STL 模型直接導(dǎo)入,30 分鐘完成從設(shè)計(jì)到曝光全流程。黑龍江德國POLOS桌面無掩模光刻機(jī)讓你隨意進(jìn)行納米圖案化
無掩模技術(shù)優(yōu)勢:摒棄傳統(tǒng)掩模,圖案實(shí)時調(diào)整,研發(fā)成本降低 70%,小批量生產(chǎn)經(jīng)濟(jì)性突出。黑龍江德國POLOS桌面無掩模光刻機(jī)讓你隨意進(jìn)行納米圖案化
在航空航天科研中,某科研團(tuán)隊(duì)致力于研發(fā)用于環(huán)境監(jiān)測和偵察的微型飛行器。其中,制造輕量化且高性能的微機(jī)械部件是關(guān)鍵。德國 Polos 光刻機(jī)憑借無掩模激光光刻技術(shù),助力團(tuán)隊(duì)制造出尺寸precise、質(zhì)量輕盈的微型齒輪、機(jī)翼骨架等微機(jī)械結(jié)構(gòu)。例如,利用該光刻機(jī)制造的微型齒輪,齒距精度達(dá)到納米級別,極大提高了飛行器動力傳輸系統(tǒng)的效率和穩(wěn)定性?;诖?,科研團(tuán)隊(duì)成功試飛了一款新型微型飛行器,其續(xù)航時間和飛行靈活性遠(yuǎn)超同類產(chǎn)品,為未來微型飛行器在復(fù)雜環(huán)境下的應(yīng)用奠定了堅(jiān)實(shí)基礎(chǔ)。黑龍江德國POLOS桌面無掩模光刻機(jī)讓你隨意進(jìn)行納米圖案化