惠州進口光刻膠

來源： 發(fā)布時間：2025-07-08

光刻膠系列：

厚板光刻膠 JT - 3001，具備優(yōu)異分辨率、感光度和抗深蝕刻性能，符合歐盟 ROHS 標準，保質期 1 年；

水油光刻膠 SR - 3308，容量 5L；SU - 3 負性光刻膠，分辨率優(yōu)異，對比度良好，曝光靈敏度高，光源適應，重量 100g；

液晶平板顯示器負性光刻膠 JT - 1000，有 1L 裝和 100g 裝兩種規(guī)格，分辨率高，準確性和穩(wěn)定性好；

JT - 2000 UV 納米壓印光刻膠，耐強酸強堿，耐高溫達 250°C，長期可靠性高，粘接強度高，重量 100g；

LCD 正性光刻膠 YK - 200，具有較大曝光、高分辨率、良好涂布和附著力，重量 100g；

半導體正性光刻膠 YK - 300，具備耐熱耐酸、耐溶劑性、絕緣阻抗和緊密性，重量 100g；

耐腐蝕負性光刻膠 JT - NF100，重量 1L。 光刻膠廠家推薦吉田半導體，23 年研發(fā)經(jīng)驗，全自動化生產(chǎn)保障品質!惠州進口光刻膠

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定義與特性

正性光刻膠是一種在曝光后，曝光區(qū)域會溶解于顯影液的光敏材料，形成與掩膜版（Mask）圖案一致的圖形。與負性光刻膠（未曝光區(qū)域溶解）相比，其優(yōu)勢是分辨率高、圖案邊緣清晰，是半導體制造（尤其是制程）的主流選擇。

化學組成與工作原理

 主要成分

? 樹脂（成膜劑）：

? 傳統(tǒng)正性膠：采用**酚醛樹脂（Novolak）與重氮萘醌（DNQ，光敏劑）**的復合體系（PAC體系），占比約80%-90%。

? 化學增幅型（用于DUV/EUV）：含環(huán)化烯烴樹脂或含氟聚合物，搭配光酸發(fā)生器（PAG），通過酸催化反應提高感光度和分辨率。

? 溶劑：溶解樹脂和感光劑，常用丙二醇甲醚醋酸酯（PGMEA）或乳酸乙酯。

? 添加劑：表面活性劑（改善涂布均勻性）、穩(wěn)定劑（防止暗反應）、堿溶解度調(diào)節(jié)劑等。

 工作原理

? 曝光前：光敏劑（如DNQ）與樹脂結合，形成不溶于堿性顯影液的復合物。

? 曝光時：

? 傳統(tǒng)PAC體系：DNQ在紫外光（G線436nm、I線365nm）照射下發(fā)生光分解，生成羧酸，使曝光區(qū)域樹脂在堿性顯影液中溶解性增強。

? 化學增幅型：PAG在DUV/EUV光下產(chǎn)生活性酸，催化樹脂發(fā)生脫保護反應，大幅提高顯影速率（靈敏度提升10倍以上）。

? 顯影后：曝光區(qū)域溶解去除，未曝光區(qū)域保留，形成正性圖案。
江西高溫光刻膠供應商光刻膠的研發(fā)需要兼顧材料純度、粘附性和曝光后的化學穩(wěn)定性。

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客戶認證：從實驗室到產(chǎn)線的漫長“闖關”

 驗證周期與試錯成本
半導體光刻膠需經(jīng)歷PRS（性能測試）、STR（小試）、MSTR（中批量驗證）等階段，周期長達2-3年。南大光電的ArF光刻膠自2021年啟動驗證，直至2025年才通過客戶50nm閃存平臺認證。試錯成本極高，單次晶圓測試費用超百萬元，且客戶為維持產(chǎn)線穩(wěn)定，通常不愿更換供應商。

 設備與工藝的協(xié)同難題
光刻膠需與光刻機、涂膠顯影機等設備高度匹配。國內(nèi)企業(yè)因缺乏ASML EUV光刻機測試資源，只能依賴二手設備或與晶圓廠合作驗證，導致研發(fā)效率低下。例如，華中科技大學團隊開發(fā)的EUV光刻膠因無法接入ASML原型機測試，性能參數(shù)難以對標國際。

廣東吉田半導體材料有限公司，坐落于松山湖經(jīng)濟技術開發(fā)區(qū)，是半導體材料領域的一顆璀璨明珠。公司注冊資本 2000 萬元，專注于半導體材料的研發(fā)、生產(chǎn)與銷售，是國家高新技術企業(yè)、廣東省專精特新企業(yè)以及廣東省創(chuàng)新型中小企業(yè)。

強大的產(chǎn)品陣容：吉田半導體產(chǎn)品豐富且實力強勁。芯片光刻膠、納米壓印光刻膠、LCD 光刻膠精細滿足芯片制造、微納加工等關鍵環(huán)節(jié)需求；半導體錫膏、焊片在電子焊接領域性能；靶材更是在材料濺射沉積工藝中發(fā)揮關鍵作用。這些產(chǎn)品遠銷全球，與眾多世界 500 強企業(yè)及電子加工企業(yè)建立了長期穩(wěn)固的合作關系。

雄厚的研發(fā)生產(chǎn)實力：作為一家擁有 23 年研發(fā)與生產(chǎn)經(jīng)驗的綜合性企業(yè)，吉田半導體具備行業(yè)前列規(guī)模與先進的全自動化生產(chǎn)設備。23 年的深耕細作，使其在技術研發(fā)、工藝優(yōu)化等方面積累了深厚底蘊，能夠快速響應市場需求，不斷推出創(chuàng)新性產(chǎn)品。

嚴格的質量管控：公司始終將品質視為生命線，嚴格按照 ISO9001:2008 質量體系標準監(jiān)控生產(chǎn)制程。生產(chǎn)環(huán)境執(zhí)行 8S 現(xiàn)場管理，從源頭抓起，所有生產(chǎn)材料均選用美國、德國、日本等國家進口的高質量原料，確?？蛻羰褂玫匠哔|量且穩(wěn)定的產(chǎn)品。 吉田技術研發(fā)與生產(chǎn)能力。

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LCD 正性光刻膠（YK-200）應用場景：LCD 面板的電極圖案化（如 TFT-LCD 的柵極、源漏極）、彩色濾光片制造。特點：高感光度與均勻涂布性，確保顯示面板的高對比度和色彩還原度。
厚膜光刻膠（JT-3001）應用場景：Mini LED/Micro LED 顯示基板的巨量轉移技術，以及 OLED 面板的封裝工藝。特點：膜厚可控（可達數(shù)十微米），滿足高密度像素陣列的精細加工需求。
PCB 光刻膠（如 SU-3 負性光刻膠）應用場景：高多層 PCB、HDI（高密度互連）板的線路成像，以及 IC 載板的精細線路制作。特點：抗電鍍性能優(yōu)異，支持細至 50μm 以下的線寬 / 線距，適應 5G 通信、服務器等 PCB 需求。 光刻膠的顯示面板領域。四川阻焊油墨光刻膠感光膠

正性光刻膠生產(chǎn)廠家?；葜葸M口光刻膠

主要優(yōu)勢：細分領域技術突破與產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同

 技術積累與自主化能力
公司擁有23年光刻膠研發(fā)經(jīng)驗，實現(xiàn)了從樹脂合成、光引發(fā)劑制備到配方優(yōu)化的全流程自主化。例如，其納米壓印光刻膠通過自主開發(fā)的樹脂體系，分辨率達3μm，適用于MEMS傳感器、光學器件等領域，填補了國內(nèi)空白。
技術壁壘：掌握光刻膠主要原材料（如樹脂、光酸）的合成技術，部分原材料純度達PPT級，金屬離子含量低于0.1ppb，良率超99%。

 產(chǎn)品多元化與技術化布局
產(chǎn)品線覆蓋芯片光刻膠、納米壓印光刻膠、LCD光刻膠、半導體錫膏等，形成“光刻膠+配套材料”的完整體系。例如：

? LCD光刻膠：適配AMOLED、Micro LED等新型顯示技術，與京東方、TCL華星合作開發(fā)高分辨率產(chǎn)品，良率提升至98%。

? 半導體錫膏：供應華為、OPPO等企業(yè)，年采購量超200噸，用于5G手機主板封裝。
技術化延伸：計劃2025年啟動半導體用KrF光刻膠研發(fā)，目標進入中芯國際、長江存儲供應鏈。

 質量控制與生產(chǎn)能力
通過ISO9001:2008質量體系認證，生產(chǎn)環(huán)境執(zhí)行8S管理，原材料采用美、德、日進口高質量材料。擁有全自動化生產(chǎn)線，年產(chǎn)能達2000噸（光刻膠及配套材料），支持大規(guī)模訂單交付。

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標簽： 光刻膠 錫膏 錫片