《光刻膠缺陷分析與控制：提升芯片良率的關(guān)鍵》**內(nèi)容： 列舉光刻膠工藝中常見的缺陷類型（顆粒、氣泡、彗星尾、橋連、鉆蝕、殘留等）。擴(kuò)展點(diǎn)： ...
《電子束光刻膠：納米結(jié)構(gòu)的然后雕刻刀》不可替代性電子束光刻（EBL）無需掩膜版，直接繪制<5nm圖形，是量子芯片、光子晶體的主要工具，但電子...
428光刻膠是半導(dǎo)體光刻工藝的**材料，根據(jù)曝光后的溶解特性可分為正性光刻膠（正膠）和負(fù)性光刻膠（負(fù)膠），兩者在原理和應(yīng)用上存在根本差異。正...
光刻膠的選擇策略：如何為特定工藝匹配合適的光刻膠選擇光刻膠的關(guān)鍵考量維度：工藝節(jié)點(diǎn)/**小特征尺寸（決定波長(zhǎng)和膠類型）。光刻技術(shù)（干法、浸沒...
廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司坐落于松山湖經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)，注冊(cè)資本 2000 萬元，是一家專注于半導(dǎo)體材料研發(fā)、生產(chǎn)和銷售的技術(shù)企業(yè)和廣東省專精特新企業(yè)及廣東省創(chuàng)新型中小企業(yè)，我們的產(chǎn)品遠(yuǎn)銷全球，與許多世界 500 強(qiáng)企業(yè)和電子加工企業(yè)建立了長(zhǎng)期合作關(guān)系。 公司產(chǎn)品主要有：芯片光刻膠，納米壓印光刻膠，LCD 光刻膠，半導(dǎo)體錫膏，焊片，靶材等材料，公司是一個(gè)擁有 23 年研發(fā)與生產(chǎn)的綜合性企業(yè)。公司按照 ISO9001:2008 質(zhì)量體系標(biāo)準(zhǔn)，嚴(yán)格監(jiān)控生產(chǎn)制程，生產(chǎn)環(huán)境嚴(yán)格執(zhí)行 8S 現(xiàn)場(chǎng)管理，所有生產(chǎn)材料均采用美國(guó)、德國(guó)與日本及其他國(guó)家進(jìn)口的高質(zhì)量材料，確保客戶能使用到超高質(zhì)量及穩(wěn)定的產(chǎn)品。 我們將繼續(xù)秉承精湛的技術(shù)和專業(yè)的服務(wù)，致力于為客戶提供解決方案，共同推動(dòng)半導(dǎo)體材料的發(fā)展。
