上海德國無掩膜光刻微納加工系統(tǒng)

來源: 發(fā)布時間:2025-08-03

Nanoscribe公司PhotonicProfessionalGT2高速3D打印系統(tǒng)制作的高精度器件圖登上了剛發(fā)布的商業(yè)微納制造雜志“CommercialMicroManufacturingmagazine”(CMM)。文章中介紹了高精度3D打印,并重點講解了先進的打印材料是如何讓雙光子聚合技術應用錦上添花的。Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)把雙光子聚合技術融入強大了3D打印工作流程,實現(xiàn)了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術用于3D微納結構的增材制造,可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復雜的光刻步驟來創(chuàng)建3D和2.5D微結構制作。Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術(2GL®)可用于工業(yè)領域2.5D微納米結構原型母版制作。無掩膜光刻技術助力創(chuàng)新。上海德國無掩膜光刻微納加工系統(tǒng)

上海德國無掩膜光刻微納加工系統(tǒng),無掩膜光刻

世界上頭一臺雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)QuantumX實現(xiàn)了2D和2.5D微納結構的增材制造。該無掩模光刻系統(tǒng)將灰度光刻的出色性能與Nanoscribe的雙光子聚合技術的精度和靈活性相結合,從而達到亞微米分辨率并實現(xiàn)對體素大小的超快控制,自動化打印以及特別高的形狀精度和光學質量表面。高精度的增材制造可打印出頂端的折射微納光學元件。得益于Nanoscribe雙光子灰度光刻技術所具有的設計自由度和光學質量的特點,您可以進行幾乎任何形狀,包括球形,非球形或者自由曲面和混合的創(chuàng)新設計。浙江2PP無掩膜光刻無掩光刻了解雙光子無掩模光刻技術在微納醫(yī)學中的應用,請致電Nanoscribe中國分公司-納糯三維。

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Nanoscribe雙光子聚合技術所具有的高設計自由度,可以在各種預先構圖的基板上實現(xiàn)波導和混合折射衍射光學器件等3D微納加工制作。結合Nanoscribe公司的高精度定位系統(tǒng),可以按設計需要精確地集成復雜的微納結構。由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件,從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領域的設計迭代周期,包括仿生表面,微光學元件,機械超材料和3D細胞支架等

由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度,屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件,從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領域的設計迭代周期,包括仿生表面,微光學元件,機械超材料和3D細胞支架等。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術,斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學研究中心的科學家們新研發(fā)的微型內窺鏡。更多無掩模光刻技術的相關信息請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司。

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Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)把雙光子聚合技術融入強大了3D打印工作流程,實現(xiàn)了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術用于3D微納結構的增材制造,可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復雜的光刻步驟來創(chuàng)建3D和2.5D微結構制作。PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)可以實現(xiàn)精度上限的3D打印,突破了微納米制造的限制。該打印系統(tǒng)的易用性和靈活性的特點配以比較廣的打印材料選擇使其成為理想的實驗研究儀器和多用戶設施。我們的3D微納加工技術可以滿足您對于制作亞微米分辨率和毫米級尺寸的復雜微機械元件的要求。3D設計的多功能性對于制作復雜且響應迅速的高精度微型機械,傳感器和執(zhí)行器是至關重要的光刻技術降低了掩膜的成本,同時也減少了制造時間和材料浪費,從而降低了總成本。河南雙光子無掩膜光刻3D打印

由于沒有物理掩膜,無掩膜光刻技術可以快速地制造出大量的芯片,提高了生產效率。上海德國無掩膜光刻微納加工系統(tǒng)

全新QuantumXshape作為Nanoscribe工業(yè)級無掩膜光刻系統(tǒng)QuantumX產品系列的第二臺設備,可實現(xiàn)在25cm2面積內打印任何結構,很大程度推動了生命科學,微流體,材料工程學中復雜應用的快速原型制作。QuantumXshape作為具備光敏樹脂自動分配功能的直立式打印系統(tǒng),非常適合標準6英寸晶圓片工業(yè)批量加工制造。高速3D微納加工系統(tǒng)QuantumXshape可實現(xiàn)出色形狀精度和高精度制作。這種高質量的打印效果是結合了特別先進的振鏡系統(tǒng)和智能電子系統(tǒng)控制單元的結果,同時還離不開工業(yè)級飛秒脈沖激光器以及平穩(wěn)堅固的花崗巖操作平臺。QuantumXshape具有先進的激光焦點軌跡控制,可操控振鏡加速和減速至特別快的掃描速度,并以1MHz調制速率動態(tài)調整激光功率。上海德國無掩膜光刻微納加工系統(tǒng)