浙江德國POLOS桌面無掩模光刻機讓你隨意進行納米圖案化

來源: 發(fā)布時間:2025-07-14

SPS POLOS μ以桌面化設(shè)計降低設(shè)備投入成本,無需掩膜制備費用。其光束引擎通過壓電驅(qū)動快速掃描,單次寫入?yún)^(qū)域達400 μm,支持光刻膠如AZ5214E的高效曝光。研究案例顯示,該設(shè)備成功制備了間距3 μm的微圖案陣列和叉指電容器,助力納米材料與柔性電子器件的快速原型驗證。無掩模光刻技術(shù)可以隨意進行納米級圖案化,無需使用速度慢且昂貴的光罩。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協(xié)的情況下,將該技術(shù)帶到了桌面上,進一步提升了其優(yōu)勢。柔性電子制造:可制備叉指電容器與高頻電路,推動5G通信與物聯(lián)網(wǎng)硬件發(fā)展。浙江德國POLOS桌面無掩模光刻機讓你隨意進行納米圖案化

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一所高校的電子工程實驗室專注于新型傳感器的研究。在開發(fā)一款超靈敏壓力傳感器時,面臨著如何在微小尺寸上構(gòu)建高精度電路圖案的難題。德國 Polos 光刻機的引入解決了這一困境。其可輕松輸入任意圖案進行曝光的特性,讓研究人員能夠根據(jù)傳感器的特殊需求,設(shè)計并制作出獨特的電路結(jié)構(gòu)。通過 Polos 光刻機precise的光刻,成功制造出的壓力傳感器,靈敏度比現(xiàn)有市場產(chǎn)品提高了兩倍以上。該成果已獲得多項patent,并吸引了多家科技企業(yè)的關(guān)注,有望實現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用,為可穿戴設(shè)備、智能機器人等領(lǐng)域帶來新的發(fā)展機遇。河北POLOSBEAM光刻機不需要緩慢且昂貴的光掩??臻g友好設(shè)計:占地面積小于 1.2㎡,小型實驗室也能部署高精度光刻系統(tǒng)。

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某基因treatment團隊采用 Polos 光刻機開發(fā)了微米級 DNA 遞送載體。通過 STL 模型直接導(dǎo)入,在生物可降解聚合物表面刻制出 1-5μm 的蜂窩狀微孔結(jié)構(gòu),載體的 DNA 負載量達 200μg/mg,較傳統(tǒng)電穿孔法提升 5 倍。動物實驗顯示,該載體在肝臟靶向遞送中,基因轉(zhuǎn)染效率達 65%,且免疫原性降低 70%。其無掩模特性支持根據(jù)不同細胞表面受體定制載體形貌,在 CAR-T 細胞treatment中,CAR 基因?qū)胄蕪?30% 提升至 75%,相關(guān)技術(shù)已申請國際patent。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學(xué)研究實驗室以外的領(lǐng)域,為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。

德國 Polos 光刻機系列的一大突出優(yōu)勢,便是能夠輕松輸入任意圖案進行曝光。在科研工作中,創(chuàng)新的設(shè)計理念往往需要快速驗證,而 Polos 光刻機正滿足了這一需求??蒲腥藛T無需花費大量時間和成本制作掩模,只需將設(shè)計圖案導(dǎo)入系統(tǒng),就能迅速開始光刻作業(yè)。? 在生物醫(yī)學(xué)工程領(lǐng)域,研究人員利用這一特性,快速制作出具有特殊結(jié)構(gòu)的生物芯片,用于疾病診斷和藥物篩選。在材料科學(xué)研究中,可根據(jù)不同材料特性,定制獨特的圖案結(jié)構(gòu),探索材料的新性能。這種靈活的圖案輸入方式,remarkable縮短了科研周期,加速科研成果的產(chǎn)出,讓科研人員能夠?qū)⒏嗑ν度氲絼?chuàng)新研究中。德國工藝:精密制造基因,10 年以上使用壽命,維護成本低,設(shè)備殘值率達 60%。

浙江德國POLOS桌面無掩模光刻機讓你隨意進行納米圖案化,光刻機

在微流體研究領(lǐng)域,德國 Polos 光刻機系列憑借獨特優(yōu)勢脫穎而出。其無掩模激光光刻技術(shù),打破傳統(tǒng)光刻的局限,無需掩模就能實現(xiàn)高精度圖案制作。這使得科研人員在構(gòu)建微通道網(wǎng)絡(luò)時,可根據(jù)實驗需求自由設(shè)計,快速完成從圖紙到實體的轉(zhuǎn)化。?以藥物傳輸研究為例,利用 Polos 光刻機,能制造出尺寸precise、結(jié)構(gòu)復(fù)雜的微通道,模擬人體環(huán)境,讓藥物在微小空間內(nèi)可控流動,much提升藥物傳輸效率研究的準確性。同時,在細胞培養(yǎng)實驗中,該光刻機制作的微流體芯片,為細胞提供穩(wěn)定且適宜的生長環(huán)境,助力細胞生物學(xué)研究取得新突破。小空間大作為的 Polos 光刻機,正推動微流體研究不斷向前。納 / 微機械:亞微米級結(jié)構(gòu)加工,微型齒輪精度達 ±50nm,推動微機電系統(tǒng)創(chuàng)新。江蘇德國POLOS桌面無掩模光刻機不需要緩慢且昂貴的光掩模

固態(tài)電池:鋰金屬界面阻抗降至 50Ω?cm2,電池循環(huán)壽命提升 3 倍。浙江德國POLOS桌面無掩模光刻機讓你隨意進行納米圖案化

Polos系列通過無掩模技術(shù)減少化學(xué)廢料產(chǎn)生,同時低能耗設(shè)計(如固態(tài)激光光源)符合綠色實驗室標準。例如,其光源系統(tǒng)較傳統(tǒng)DUV光刻機能耗降低30%,助力科研機構(gòu)實現(xiàn)碳中和目標。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設(shè)計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機械系統(tǒng)等各個領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學(xué)研究實驗室以外的領(lǐng)域,為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。浙江德國POLOS桌面無掩模光刻機讓你隨意進行納米圖案化