山東工業(yè)級灰度光刻激光直寫

國際上，激光直寫設備是光掩模制備的主要工具，尤其在高世代TFT-Array掩模的平面圖形，面積可達110英寸（瑞典MICRONIC）單價高于1.5億元/套，制備一個線寬分辨率1.5微米的110吋光掩模單價500萬RMB；然而，這種激光直寫設備并不適用于微納3Ｄ形貌結構和深紋圖形制備。已有的基于藍光405nm直接成像光刻（DIL）適合光刻分辨率較低的圖形，也不適用于3D結構的灰度光刻。因此，面向柔性光電子材料與器件的需求，必須攻克大面積3D形貌的微結構的高效高精度制備，解決海量數(shù)據(jù)高效率轉化、高精度數(shù)據(jù)迭代與疊加曝光，高速率飛行直寫技術的難題。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您介紹Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統(tǒng)。山東工業(yè)級灰度光刻激光直寫

作為全球頭一臺雙光子灰度光刻激光直寫系統(tǒng)，QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學質量表面的高精度微納光學聚合物母版，可適用于批量生產(chǎn)的流水線工業(yè)程序，例如注塑，熱壓花和納米壓印等加工流程，從而拓展微納加工工業(yè)領域的應用。2GL與這些批量生產(chǎn)流水線工業(yè)程序的結合得益于新技術的亞微米分辨率和靈活性的特點，同時縮短創(chuàng)新微納光學器件（如衍射和折射光學器件）的整體制造時間。另外，QuantumX打印系統(tǒng)非常適合DOE的制作。該系統(tǒng)的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學元件所需的橫向和縱向高分辨率要求。基于雙光子灰度光刻技術(2GL®)的QuantumX打印系統(tǒng)可以實現(xiàn)一氣呵成的制作山東工業(yè)級灰度光刻激光直寫Nanoscribe中國分公司-納糯三維為您介紹Quantum X 雙光子灰度光刻微納打印設備應用的領域。

這種設計策略不僅可用于改進現(xiàn)有的傳感器，該項目還旨在展示具有動態(tài)移動部件的新型傳感器概念的可行性。在第二種設計中，研究人員在一根光纖的端面3D打印了一個微型轉子。從轉子上反射出的光脈沖可以被讀取，因此該傳感器可以被用于分析流速。FabryPérot傳感器進行溫度和折射率感應的測試裝置圖。圖片：資料來源見本文下方。通過動態(tài)可旋轉的3D微納加工概念，研究人員展示了智能設計如何改進現(xiàn)有的傳感器，并為整個新的微型化傳感器概念鋪平道路的能力。

傳統(tǒng)3D打印難以實現(xiàn)對于復雜設計或曲線形狀的高分辨率3D打印，必須切片并分為大量水平和垂直層。這會明顯增加對于平滑、曲線或精細結構的打印時間。雙光子聚合技術（2PP）則可以解決這個難題。Nanosribe于2019年推出的雙光子灰度光刻技術（2GL®）可實現(xiàn)體素調節(jié)，從而明顯減少打印層數(shù)。這是通過掃描過程中的快速激光調制來實現(xiàn)的。并且，這項技術已從原先適用于。Nanoscribe于2023年推出雙光子灰度光刻3D打印技術3Dprintingby2GL®，該技術具備實現(xiàn)出色形狀精度的優(yōu)越打印品質，并將Nanoscribe的灰度技術拓展到三維層面。整個打印過程在保持高速掃描的同時實現(xiàn)實時動態(tài)調整激光功率。這使得聚合體素得到精確尺寸調整，以完美匹配任何3D形狀的輪廓。在無需切片步驟，不產(chǎn)生形狀失真的要求下，您將獲得具有無瑕疵光學級表面的任意3D打印設計的真實完美形狀?；陔p光子灰度光刻技術 (2GL ?)的Quantum X打印系統(tǒng)可以實現(xiàn)一氣呵成的制作。

微凹透鏡陣列結構是光學器件中的一種常見組件，具有較強的聚焦和成像能力。以往制備此類結構的方法有熱回流、灰度光刻、干法刻蝕和注射澆鑄等。受加工手段的限制，傳統(tǒng)的微透鏡陣列往往是在1個平板襯底上加工出一系列相同尺寸的凹透鏡結構，這樣的1組微透鏡陣列無法將1個平面物體聚焦至1個像平面上，會產(chǎn)生場曲。在商業(yè)生產(chǎn)中，為了消除場曲這種光學像差，只能在后續(xù)光路中引入場鏡組來進行校正，從而增加了器件復雜度和成本。如果采用3D飛秒激光打印來加工微凹透鏡陣列即可通過設計一系列具有漸變深度的微凹透鏡單元直接消除場曲。雙光子灰度光刻技術3D printing by 2GL?是?種基于2PP的 全新三維微加工技術。黑龍江高精度灰度光刻設備

Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您了解成熟的灰度光刻技術。山東工業(yè)級灰度光刻激光直寫

NanoscribeQuantumXalign作為前列的3D打印系統(tǒng)具備了A2PL®對準雙光子光刻技術，可實現(xiàn)在光纖和光子芯片上的納米級精確對準。全新灰度光刻3D打印技術3Dprintingby2GL®在實現(xiàn)優(yōu)異的打印質量同時兼顧打印速度，適用于微光學制造和光子封裝領域。3Dprintingby2GL®將Nanoscribe的灰度技術推向了三維層面。整個打印過程在最高速度掃描的同時實現(xiàn)實時動態(tài)調制激光功率。這使得聚合的體素得到精確尺寸調整，以完美匹配任何3D形狀的輪廓。在無需切片步驟，不產(chǎn)生形狀失真的要求下，您將獲得具有無瑕疵光學表面的任意3D打印設計的真實完美形狀。山東工業(yè)級灰度光刻激光直寫