重慶2PP灰度光刻無掩膜激光直寫

我們往往需要通過灰度光刻的方式來實現(xiàn)微透鏡陣列結構，灰度光刻的就是利用灰度光刻掩膜版（掩膜接觸式光刻）或者計算機控制激光束或者電子束劑量從而達到在某些區(qū)域完全曝透，而某些區(qū)域光刻膠部分曝光，從而在襯底上留下3D輪廓形態(tài)的光刻膠結構（如下圖4所示，八邊金字塔結構）。微透鏡陣列也是類似，可以通過劑量分布的控制來控制其輪廓形態(tài)。需要注意，灰度光刻方法獲得的微透鏡陣列的表面粗糙度相比于熱回流和噴墨法獲得的透鏡要大的多，約為Ra=100nm，前兩者可以會的Ra=50nm的球面?；叶裙饪碳夹g作為一種新型的光刻技術，具有突破傳統(tǒng)光刻技術的優(yōu)勢。重慶2PP灰度光刻無掩膜激光直寫

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實現(xiàn)微機械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復合物，或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機電系統(tǒng)（MEMS）。微米級增材制造能夠突破傳統(tǒng)微納光學設計的上限，借助Nanoscribe雙光子聚合技術的出色的性能，可以輕松實現(xiàn)球形，非球形，自由曲面或復雜3D微納光學元件制作，并具備出色的光學質量表面和形狀精度。雙光子灰度光刻技術可以一步實現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件（DOE），并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。由于需要多次光刻，刻蝕和對準工藝，衍射光學元件（DOE）的傳統(tǒng)制造耗時長且成本高。而利用增材制造即可簡單一步實現(xiàn)多級衍射光學元件，可以直接作為原型使用，也可以作為批量生產(chǎn)母版工具。湖北超高速灰度光刻技術3D打印灰度光刻技術可用于制造復雜掩膜版。

雙光子灰度光刻技術可以一步實現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件（DOE），并且滿足DOE納米結構表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。由于需要多次光刻，刻蝕和對準工藝，衍射光學元件（DOE）的傳統(tǒng)制造耗時長且成本高。而利用增材制造即可簡單一步實現(xiàn)多級衍射光學元件，可以直接作為原型使用，也可以作為批量生產(chǎn)母版工具。Nanoscribe的QuantumX打印系統(tǒng)非常適合DOE的制作。該系統(tǒng)的無掩模光刻解決方案可以滿足衍射光學元件所需的橫向和縱向高分辨率要求?；陔p光子灰度光刻技術(2GL®)的QuantumX打印系統(tǒng)可以實現(xiàn)一氣呵成的制作，即一步打印多級衍射光學元件，并以經(jīng)濟高效的方法將多達4,096層的設計加工成離散的或準連續(xù)的拓撲。

Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統(tǒng)QuantumX的中心是Nanoscribe獨jia專li的雙光子灰度光刻技術（2GL®）。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業(yè)的設計迭代，打印樣品結構既可以用作技術驗證原型，也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具。這項技術的關鍵是在高速掃描下使激光功率調制和動態(tài)聚焦定位達到準同步，這種智能方法能夠輕松控制每個掃描平面的體素大小，并在不影響速度的情況下，使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面。該技術將灰度光刻的性能與雙光子聚合的jing確性和靈活性*結合，使其同時具備高速打印，完全設計自由度和超高精度的特點。從而滿足了復雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。，灰度光刻可以明顯縮短制造時間，提高生產(chǎn)效率。

全新的QuantumX無掩模光刻系統(tǒng)能夠數(shù)字化制造高精度2維和2.5維光學元件。作為世界上頭一個雙光子灰度光刻系統(tǒng)，在充分滿足設計自由的同時，一步制造具有光學質量表面以及高形狀精度要求的微光學元件，達到所見即所得。全新的NanoscribeQuantumX系統(tǒng)適用于工業(yè)生產(chǎn)中所需手板和模具的定制化精細加工。該無掩模光刻系統(tǒng)顛覆了自由形狀的微透鏡、微透鏡陣列和多級衍射光學元件的傳統(tǒng)制作工藝。而且QuantumX提供了完全的設計自由度、高速的打印效率、以及增材制造復雜結構超光滑表面所需的高精度?？焖?、準確的增材制造工藝極大地縮短了設計迭代周期，實現(xiàn)了低成本的微納加工。想要了解灰度光刻技術的運用，歡迎咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。湖北超高速灰度光刻技術3D打印

微納3D打印和灰度光刻技術有什么區(qū)別？重慶2PP灰度光刻無掩膜激光直寫

Nanoscribe的雙光子灰度光刻激光直寫技術(2GL®)可用于工業(yè)領域2.5D微納米結構原型母版制作。2GL通過創(chuàng)新的設計重新定義了典型復雜結構微納光學元件的微納加工制造。該技術結合了灰度光刻的出色性能，以及雙光子聚合的亞微米級分辨率和靈活性。而且GT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結構、自由設計的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結構。PhotonicProfessionalGT2結合了設計的靈活性和操控的簡潔性，以及普遍的材料-基板選擇。因此，它是一個理想的科學儀器和工業(yè)快速成型設備，適用于多用戶共享平臺和研究實驗室。Nanoscribe的3D無掩模光刻機目前已經(jīng)分布在30多個國家的前沿研究中，超過1,000個開創(chuàng)性科學研究項目是這項技術強大的設計和制造能力的特別好證明。重慶2PP灰度光刻無掩膜激光直寫