江蘇超高速灰度光刻無掩膜激光直寫

來源: 發(fā)布時間:2025-07-02

近年來,利用雙光子聚合對聚合物類傳統(tǒng)光刻膠的3D飛秒激光打印技術已日臻成熟,其高精度、高度可設計性和維度可控性已經(jīng)在平行技術中排名在前。與此同時,如何更有效地將微納結(jié)構(gòu)功能化,也逐漸成為各種微納加工技術的研究重點。在現(xiàn)階段,對于3D飛秒激光打印技術而言,具體來說就是利用其加工的高度可設計性來實現(xiàn)微納結(jié)構(gòu)的功能化和芯片化,并使這些結(jié)構(gòu)能夠更好地集成器件,從而達到理想的應用目的。微凹透鏡陣列結(jié)構(gòu)是光學器件中的一種常見組件,具有較強的聚焦和成像能力。以往制備此類結(jié)構(gòu)的方法有熱回流、灰度光刻、干法刻蝕和注射澆鑄等。受加工手段的限制,傳統(tǒng)的微透鏡陣列往往是在1個平板襯底上加工出一系列相同尺寸的凹透鏡結(jié)構(gòu),這樣的1組微透鏡陣列無法將1個平面物體聚焦至1個像平面上,會產(chǎn)生場曲。更多灰度光刻知識,歡迎咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司。江蘇超高速灰度光刻無掩膜激光直寫

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近年來,實現(xiàn)微納尺度下的3D灰度光刻結(jié)構(gòu)在包括微機電(MEMS)、微納光學及微流控研究領域內(nèi)備受關注,良好的線性側(cè)壁灰度結(jié)構(gòu)可以很大程度上提高維納器件的靜電力學特性,信號通訊性能及微流通道的混合效率等。相比一些獲取灰度結(jié)構(gòu)的傳統(tǒng)手段,如超快激光刻蝕工藝、電化學腐蝕或反應離子刻蝕等,灰度直寫圖形曝光結(jié)合干法刻蝕可以更加方便地制作任意圖形的3D微納結(jié)構(gòu)。該方法中,利用微鏡矩陣(DMD)開合控制的激光灰度直寫曝光表現(xiàn)出更大的操作便捷性、易于設計等特點,不需要特定的灰度色調(diào)掩膜版,結(jié)合軟件的圖形化設計可以直觀地獲得灰度結(jié)構(gòu)。黑龍江德國灰度光刻無掩光刻Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司為您介紹Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統(tǒng)。

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Nanoscribe在全球30多個國家擁有各科領域的客戶群體。基于2PP微納加工技術方面的專業(yè)知識,Nanoscribe為頂端科學研究和工業(yè)創(chuàng)新提供強大的技術支持,并推動生物打印、微流體、微納光學、微機械、生物醫(yī)學工程和集成光子學技術等不同領域的發(fā)展。“我們非常期待加入CELLINK集團,共同探索雙光子聚合技術在未來所帶來的更大機遇”NanoscribeCEOMartinHermatschweiler說道。Nanoscribe作為一家納米,微米和中尺度高精度結(jié)構(gòu)增材制造**,一直致力于開發(fā)和生產(chǎn)和無掩模光刻系統(tǒng),以及自研發(fā)的打印材料和特定應用不同解決方案。在全球頂端大學和創(chuàng)新科技企業(yè)的中,有超過2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術和定制應用解決方案。

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來產(chǎn)生幾乎任何3D形狀:晶格、木堆型結(jié)構(gòu)、自由設計的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu)。PhotonicProfessionalGT2結(jié)合了設計的靈活性和操控的簡潔性,以及非常廣的材料-基板選擇。因此,它是一個理想的科學儀器和工業(yè)快速成型設備,適用于多用戶共享平臺和研究實驗室。Nanoscribe的3D無掩模光刻機目前已經(jīng)分布在30多個國家的前沿研究中,超過1,000個開創(chuàng)性科學研究項目是這項技術強大的設計和制造能力的特別好證明。與傳統(tǒng)的光刻技術相比,灰度光刻在制造復雜芯片時具有明顯的優(yōu)勢。

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作為基于雙光子聚合技術(2PP)的微納加工領域市場帶領者,Nanoscribe在全球30多個國家擁有各科領域的客戶群體?;?PP微納加工技術方面的專業(yè)知識,Nanoscribe為頂端科學研究和工業(yè)創(chuàng)新提供強大的技術支持,并推動生物打印、微流體、微納光學、微機械、生物醫(yī)學工程和集成光子學技術等不同領域的發(fā)展。“我們非常期待加入CELLINK集團,共同探索雙光子聚合技術在未來所帶來的更大機遇”NanoscribeCEOMartinHermatschweiler說道。Nanoscribe作為一家納米,微米和中尺度高精度結(jié)構(gòu)增材制造專業(yè)人才,一直致力于開發(fā)和生產(chǎn)和無掩模光刻系統(tǒng),以及自研發(fā)的打印材料和特定應用不同解決方案。在全球頂端大學和創(chuàng)新科技企業(yè)的中,有超過2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術和定制應用解決方案。Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技(上海)有限公司為您揭秘雙光子灰度光刻系統(tǒng)的應用。上海超高速灰度光刻無掩膜激光直寫

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Nanoscribe高速灰度光刻微納加工打印系統(tǒng)QuantumX的中心是Nanoscribe獨jia專li的雙光子灰度光刻技術(2GL®)。這種具有創(chuàng)新性的增材制造工藝很大程度縮短了企業(yè)的設計迭代,打印樣品結(jié)構(gòu)既可以用作技術驗證原型,也可以用作工業(yè)生產(chǎn)上的加工模具。這項技術的關鍵是在高速掃描下使激光功率調(diào)制和動態(tài)聚焦定位達到準同步,這種智能方法能夠輕松控制每個掃描平面的體素大小,并在不影響速度的情況下,使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面。該技術將灰度光刻的性能與雙光子聚合的jing確性和靈活性*結(jié)合,使其同時具備高速打印,完全設計自由度和超高精度的特點。從而滿足了復雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。江蘇超高速灰度光刻無掩膜激光直寫