顯微熱紅外顯微鏡售價(jià)

來源: 發(fā)布時(shí)間:2025-07-11

在失效分析的有損分析中,打開封裝是常見操作,通常有三種方法。全剝離法會(huì)將集成電路完全損壞,留下完整的芯片內(nèi)部電路。但這種方法會(huì)破壞內(nèi)部電路和引線,導(dǎo)致無法進(jìn)行電動(dòng)態(tài)分析,適用于需觀察內(nèi)部電路靜態(tài)結(jié)構(gòu)的場景。局部去除法通過特定手段去除部分封裝,優(yōu)點(diǎn)是開封過程不會(huì)損壞內(nèi)部電路和引線,開封后仍可進(jìn)行電動(dòng)態(tài)分析,能為失效分析提供更豐富的動(dòng)態(tài)數(shù)據(jù)。自動(dòng)法則是利用硫酸噴射實(shí)現(xiàn)局部去除,自動(dòng)化操作可提高效率和精度,不過同樣屬于破壞性處理,會(huì)對(duì)樣品造成一定程度的損傷。


熱紅外顯微鏡在 SiC/GaN 功率器件檢測中,量化評(píng)估襯底界面熱阻分布。顯微熱紅外顯微鏡售價(jià)

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在電子領(lǐng)域,所有器件都會(huì)在不同程度上產(chǎn)生熱量。器件散發(fā)一定熱量屬于正常現(xiàn)象,但某些類型的缺陷會(huì)增加功耗,進(jìn)而導(dǎo)致發(fā)熱量上升。

在失效分析中,這種額外的熱量能夠?yàn)槎ㄎ蝗毕荼旧硖峁┯杏镁€索。熱紅外顯微鏡可以借助內(nèi)置攝像系統(tǒng)來測量可見光或近紅外光的實(shí)用技術(shù)。該相機(jī)對(duì)波長在3至10微米范圍內(nèi)的光子十分敏感,而這些波長與熱量相對(duì)應(yīng),因此相機(jī)獲取的圖像可轉(zhuǎn)化為被測器件的熱分布圖。通常,會(huì)先對(duì)斷電狀態(tài)下的樣品器件進(jìn)行熱成像,以此建立基準(zhǔn)線;隨后通電再次成像。得到的圖像直觀呈現(xiàn)了器件的功耗情況,可用于隔離失效問題。許多不同的缺陷在通電時(shí)會(huì)因消耗額外電流而產(chǎn)生過多熱量。例如短路、性能不良的晶體管、損壞的靜電放電保護(hù)二極管等,通過熱紅外顯微鏡觀察時(shí)會(huì)顯現(xiàn)出來,從而使我們能夠精細(xì)定位存在缺陷的損壞部位。 實(shí)時(shí)成像熱紅外顯微鏡成像儀熱紅外顯微鏡可捕捉物體熱輻射,助力電子元件熱分布與散熱性分析。

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近年來,非制冷熱紅外顯微鏡價(jià)格呈下行趨勢。在技術(shù)進(jìn)步層面,國內(nèi)紅外焦平面陣列芯片技術(shù)不斷突破,像元間距縮小、陣列規(guī)模擴(kuò)大,從早期的 17μm、384×288 發(fā)展到如今主流的 12μm 像元,1280 ×1 024、1920 × 1080 陣列規(guī)模實(shí)現(xiàn)量產(chǎn),如大立科技等企業(yè)推動(dòng)技術(shù)升級(jí),提升生產(chǎn)效率,降低單臺(tái)設(shè)備成本。同時(shí),國產(chǎn)化進(jìn)程加速,多家本土廠商崛起,如我司推出非制冷型鎖相紅外顯微鏡,打破進(jìn)口壟斷格局,市場競爭加劇,促使產(chǎn)品價(jià)格更加親民。

熱紅外顯微鏡與光學(xué)顯微鏡雖同屬微觀觀測工具,但在原理、功能與應(yīng)用場景上存在明顯差異,尤其在失效分析等專業(yè)領(lǐng)域各有側(cè)重。

工作原理看,光學(xué)顯微鏡利用可見光(400-760nm 波長)的反射或透射成像,通過放大樣品的物理形態(tài)(如結(jié)構(gòu)、顏色、紋理)呈現(xiàn)細(xì)節(jié),其主要是捕捉 “可見形態(tài)特征”;而熱紅外顯微鏡則聚焦 3-10μm 波長的紅外熱輻射,通過檢測樣品自身發(fā)射的熱量差異生成熱分布圖,本質(zhì)是捕捉 “不可見的熱信號(hào)”。

主要功能上,光學(xué)顯微鏡擅長觀察樣品的表面形貌、結(jié)構(gòu)缺陷(如裂紋、變形),適合材料微觀結(jié)構(gòu)分析、生物樣本觀察等;熱紅外顯微鏡則專注于微觀熱行為解析,能識(shí)別因電路缺陷、材料熱導(dǎo)差異等產(chǎn)生的溫度異常,即使是納米級(jí)的微小熱點(diǎn)(如半導(dǎo)體芯片的漏電區(qū)域)也能精確捕捉,這是光學(xué)顯微鏡無法實(shí)現(xiàn)的。

適用場景來看,光學(xué)顯微鏡是通用型觀測工具,廣泛應(yīng)用于基礎(chǔ)科研、教學(xué)等領(lǐng)域;而熱紅外顯微鏡更偏向?qū)I(yè)細(xì)分場景,尤其在半導(dǎo)體失效分析中,可定位短路、虛焊等隱性缺陷引發(fā)的熱異常,在新材料研發(fā)中能分析不同組分的熱傳導(dǎo)特性,為解決 “熱相關(guān)問題” 提供關(guān)鍵依據(jù)。 熱紅外顯微鏡支持芯片、電路板等多類電子元件熱檢測。

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紅外顯微鏡(非熱紅外)與熱紅外顯微鏡應(yīng)用領(lǐng)域各有側(cè)重。前者側(cè)重成分分析,在材料科學(xué)中用于檢測復(fù)合材料界面成分、涂層均勻性及表面污染物;生物醫(yī)藥領(lǐng)域可識(shí)別生物組織中蛋白質(zhì)等分子分布,輔助診斷;地質(zhì)學(xué)和考古學(xué)中能鑒定礦物組成與文物顏料成分;食品農(nóng)業(yè)領(lǐng)域則用于檢測添加劑、農(nóng)藥殘留及農(nóng)作物成分。熱紅外顯微鏡聚焦溫度與熱特性研究,電子半導(dǎo)體領(lǐng)域可定位芯片熱點(diǎn)、評(píng)估散熱性能;材料研究中測試熱分布均勻性與熱擴(kuò)散系數(shù);生物醫(yī)藥領(lǐng)域監(jiān)測細(xì)胞代謝熱分布及組織熱傳導(dǎo);工業(yè)質(zhì)檢能檢測機(jī)械零件隱形缺陷,評(píng)估電池充放電溫度變化。二者應(yīng)用有交叉,但分別為成分分析與熱特性研究。熱紅外顯微鏡對(duì)集成電路進(jìn)行熱檢測,排查內(nèi)部隱藏故障 。制冷熱紅外顯微鏡探測器

評(píng)估 PCB 走線布局、過孔設(shè)計(jì)對(duì)熱分布的影響,指導(dǎo)散熱片、導(dǎo)熱膠的選型與 placement。顯微熱紅外顯微鏡售價(jià)

熱紅外顯微鏡(Thermal EMMI) 圖像分析是通過探測物體自身發(fā)出的紅外輻射,將其轉(zhuǎn)化為可視化圖像,進(jìn)而分析物體表面溫度分布等信息的技術(shù)。其原理是溫度高于零度的物體都會(huì)向外發(fā)射紅外光,熱紅外顯微鏡通過吸收這些紅外光,利用光電轉(zhuǎn)換將其變?yōu)闇囟葓D像。物體內(nèi)電荷擾動(dòng)會(huì)產(chǎn)生遠(yuǎn)場輻射和近場輻射,近場輻射以倏逝波形式存在,強(qiáng)度隨遠(yuǎn)離物體表面急劇衰退,通過掃描探針技術(shù)可散射近場倏逝波,從而獲取物體近場信息,實(shí)現(xiàn)超分辨紅外成像。顯微熱紅外顯微鏡售價(jià)

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