杭州薄膜略入射測(cè)試檢測(cè)分析

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2025-06-30

汽車和航空航天:配備了UMC樣品臺(tái)的D8D的一大優(yōu)勢(shì)就是可以對(duì)大型機(jī)械零件進(jìn)行殘余應(yīng)力和結(jié)構(gòu)分析以及殘余奧氏體或高溫合金表征。半導(dǎo)體與微電子:從過(guò)程開(kāi)發(fā)到質(zhì)量控制,D8D可以對(duì)亞毫米至300mm大小的樣品進(jìn)行結(jié)構(gòu)表征。制藥業(yè)篩選:新結(jié)構(gòu)測(cè)定以及多晶篩選是藥物開(kāi)發(fā)的關(guān)鍵步驟,對(duì)此,D8D具有高通量篩選功能。儲(chǔ)能/電池:使用D8D,您將能在原位循環(huán)條件下測(cè)試電池材料,直接了當(dāng)?shù)墨@取不斷變化的儲(chǔ)能材料的晶體結(jié)構(gòu)和相組方面的信息。這種X射線源可提供高亮度光束,對(duì)mm大小的樣品研究,或使用μm大小光束進(jìn)行微區(qū)X射線衍射研究的理想選擇。杭州薄膜略入射測(cè)試檢測(cè)分析

杭州薄膜略入射測(cè)試檢測(cè)分析,XRD衍射儀

殘余應(yīng)力分析::在DIFFRAC.LEPTOS中,使用sin2psi法,用Cr輻射進(jìn)行測(cè)量,對(duì)鋼構(gòu)件的殘余應(yīng)力進(jìn)行分析。使用了2D檢測(cè)器的μXRD:使用DIFFRAC.EVA,測(cè)定小區(qū)域結(jié)構(gòu)特性。通過(guò)積分2D圖像,進(jìn)行1D掃描,來(lái)進(jìn)行定性相分析和微觀結(jié)構(gòu)分析。定性相分析:候選材料鑒別(PMI)為常見(jiàn),這是因?yàn)槠鋵?duì)原子結(jié)構(gòu)十分靈敏,而這無(wú)法通過(guò)元素分析技術(shù)實(shí)現(xiàn)。高通量篩選(HTS):在DIFFRAC.EVA中,進(jìn)行半定量分析,以現(xiàn)實(shí)孔板上不同相的濃度。非環(huán)境XRD:在DIFFRAC.WIZARD中配置溫度曲線并將其與測(cè)量同步,然后可以在DIFFRAC.EVR中顯示結(jié)果。小角X射線散射(SAXS):在DIFFRAC.SAXS中,對(duì)EIGER2R500K通過(guò)2D模式手機(jī)的NISTSRM80119nm金納米顆粒進(jìn)行粒度分析。湖北BRUKERXRD衍射儀在DIFFRAC.WIZARD中配置溫度曲線并將其與測(cè)量同不,然后可以在DIFFRAC.EVA中顯示結(jié)果。

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那么,碳晶體的晶胞參數(shù)可直接用來(lái)表征其石墨化度。XRD法利用石墨的晶格常數(shù)計(jì)算石墨化度G[1]:式中:0.3440為完全非石墨化炭的(002)晶面間距,nm;0.3354為理想石墨晶體的(002)晶面間距,nm。為實(shí)際石墨試樣(002)晶面間距,nm。實(shí)例不同石墨的石墨化度為了準(zhǔn)確的確定值或(002)峰的峰位,需要在樣品中加入內(nèi)標(biāo)以校準(zhǔn)。本文根據(jù)QJ2507-93[2]規(guī)范,用硅作為內(nèi)標(biāo)物,加入待測(cè)石墨樣品中,在瑪瑙研缽中混合研磨均勻。石墨及其復(fù)合材料具有高溫下不熔融、導(dǎo)電導(dǎo)熱性能好以及化學(xué)穩(wěn)定性優(yōu)異等特點(diǎn),應(yīng)用于冶金、化工、航空航天等行業(yè)。特別是近年來(lái)鋰電池的快速發(fā)展,進(jìn)一步加大了石墨材料的需求。工業(yè)上常將碳原料經(jīng)過(guò)煅燒破碎、焙燒、高溫石墨化處理來(lái)獲取高性能人造石墨材料。石墨的質(zhì)量對(duì)電池的性能有很大影響,石墨化度是一種從結(jié)構(gòu)上表征石墨質(zhì)量的方法之一。

D8DISCOVER是旗艦款多功能X射線衍射儀,帶有諸多前沿技術(shù)組件。它專為在環(huán)境條件下和非環(huán)境條件下,對(duì)從粉末、非晶和多晶材料到外延多層薄膜等各種材料進(jìn)行結(jié)構(gòu)表征而設(shè)計(jì)。應(yīng)用范圍:1.定性相分析和定量相分析、結(jié)構(gòu)測(cè)定和精修、微應(yīng)變和微晶尺寸分析2.X射線反射法、掠入射衍射(GID)、面內(nèi)衍射、高分辨率XRD、GISAXS、GI應(yīng)力分析、晶體取向分析3.殘余應(yīng)力分析、織構(gòu)和極圖、微區(qū)X射線衍射、廣角X射線散射(WAXS)4.總散射分析:Bragg衍射、對(duì)分布函數(shù)(PDF)、小角X射線散射(SAXS)無(wú)論面對(duì)何種應(yīng)用,DIFFRAC.DAVINCI都會(huì)指引用戶選擇較好的儀器配置。

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D8ADVANCEECO是市面上環(huán)保的X射線衍射儀,其應(yīng)用范圍、數(shù)據(jù)質(zhì)量、靈活性和可升級(jí)性毫不打折扣。D8ADVANCEECO是功能齊全的D8ADVANCE版本,適用于所有X射線粉末衍射和散射應(yīng)用。與D8ADVANCE完全兼容,它具有面向未來(lái)的所有靈活性。面對(duì)新應(yīng)用,您隨時(shí)都能對(duì)它輕松完成升級(jí),從而適應(yīng)未來(lái)實(shí)驗(yàn)室可能出現(xiàn)的任何X射線衍射和散射應(yīng)用需求:相鑒定定量相分析微觀結(jié)構(gòu)分析結(jié)構(gòu)測(cè)定和精修殘余應(yīng)力織構(gòu)掠入射衍射(GID)X射線反射分析(XRR)小角X射線散射(SAXS)對(duì)分布函數(shù)(PDF)分析UMCy樣品臺(tái)在樣品重量和大小方面具有獨(dú)特的承載能力。杭州薄膜略入射測(cè)試檢測(cè)分析

利用布魯克樣品臺(tái),能精確地操縱樣品。根據(jù)所需自由度和樣品尺寸選合適的卡口安裝式樣品臺(tái)和落地式樣品臺(tái)。杭州薄膜略入射測(cè)試檢測(cè)分析

API多晶型分析引言2015版藥典附錄新增“9105多晶型藥品的質(zhì)量控制技術(shù)和方法指導(dǎo)原則”:指出固體藥物及其制劑中粗在多晶型現(xiàn)象隨時(shí),應(yīng)使用“優(yōu)勢(shì)藥物晶型物質(zhì)狀態(tài)“為藥物原料及其制劑晶型,以保證藥品臨床有效性、安全性與質(zhì)量可控性。說(shuō)明目前藥物行業(yè)對(duì)晶型的重視。晶型,特別是API晶型對(duì)藥物的功能有直接關(guān)心,同一API的不同晶型在溶解度、熔點(diǎn)、溶出度、生物有效性等方便可能會(huì)有不同。而表征API晶型的有效手段之一就是XRPD。杭州薄膜略入射測(cè)試檢測(cè)分析

標(biāo)簽: 顯微CT XRD衍射儀