商甲半導(dǎo)體經(jīng)營產(chǎn)品:N溝道m(xù)osfet、P溝道m(xù)osfet、N+P溝道m(xù)osfet(Trench/SGT 工藝)、超結(jié)SJ mosfet等。
超結(jié)MOS的**特點
1、低導(dǎo)通電阻通過在縱向結(jié)構(gòu)中引入多個P型和N型層的超結(jié)設(shè)計,極大地降低了功率器件的導(dǎo)通電阻,在高電壓應(yīng)用中尤為***。
2、高耐壓性傳統(tǒng)MOSFET在提高耐壓的同時會增加導(dǎo)通電阻,而超結(jié)結(jié)構(gòu)通過優(yōu)化電場分布,使其在保持高耐壓的同時仍能保持較低的導(dǎo)通電阻。
3、高效率超結(jié)MOS具有較快的開關(guān)速度和低損耗特性,適用于高頻率、高效率的電力轉(zhuǎn)換應(yīng)用。
4、較低的功耗由于導(dǎo)通電阻和開關(guān)損耗的降低,超結(jié)MOS在工作時的能量損耗也***減少,有助于提高系統(tǒng)的整體能效。 無錫商甲半導(dǎo)體有限公司目前已量產(chǎn)并實現(xiàn)銷售超400顆型號。歡迎咨詢。上海MOSFET選型參數(shù)產(chǎn)品選型
MOS管常用封裝隨著電子技術(shù)的不斷進步,如今主板和顯卡的PCB板更傾向于采用表面貼裝式封裝的MOSFET,而非傳統(tǒng)的直插式封裝。因此,本文將重點探討表面貼裝式封裝的MOSFET,并深入介紹MOS管的外部封裝技術(shù)、內(nèi)部封裝改進技術(shù)、整合式DrMOS、MOSFET的發(fā)展趨勢以及具體的MOSFET實例等。接下來,我們將對標準的封裝形式進行概述,包括TO(晶體管輪廓)封裝等。
1、TO(TransistorOut-line)即“晶體管外形”,是一種早期的封裝規(guī)格。其中,TO-92、TO-92L、TO-220以及TO-252等都是采用插入式封裝設(shè)計。
隨著表面貼裝市場的需求不斷增長,TO封裝也逐漸演進為表面貼裝式封裝。特別是TO252和TO263,這兩種表面貼裝封裝方式得到了廣泛應(yīng)用。值得注意的是,TO-252也被稱為D-PAK,而TO-263則被稱為D2PAK。 泰州20V至100V N+P MOSFETMOSFET選型參數(shù)無錫商甲半導(dǎo)體有限公司積累了下游銷售渠道且客戶黏性度高;
商甲半導(dǎo)體的MOS管產(chǎn)品線展現(xiàn)出的綜合優(yōu)勢:
高效: 低Rds(on)與低Qg的完美結(jié)合,使得器件在導(dǎo)通損耗和開關(guān)損耗上都達到優(yōu)異水平,***提升系統(tǒng)效率,滿足日益嚴苛的能效標準。
運行能力: 優(yōu)異的開關(guān)特性使其非常適合于LLC諧振轉(zhuǎn)換器、同步整流、高頻DC-DC變換器等需要數(shù)百kHz甚至MHz級開關(guān)頻率的應(yīng)用場景,助力實現(xiàn)電源小型化、輕量化。
熱性能: 低損耗直接轉(zhuǎn)化為更低的溫升,結(jié)合優(yōu)化的封裝熱阻 (Rthja),提升了功率密度和長期運行可靠性。
強大的魯棒性: 良好的雪崩耐量 (Eas) 和抗沖擊能力,確保器件在浪涌、短路等異常情況下具有更高的生存概率。國產(chǎn)供應(yīng)鏈保障: 公司運營為Fabless模式,芯片自主設(shè)計并交由芯片代工企業(yè)進行代工生產(chǎn),其后委托外部封裝測試企業(yè)對芯片進行封裝測試,自主銷售。商甲半導(dǎo)體提供穩(wěn)定可靠的供貨保障,助力客戶降低供應(yīng)鏈風(fēng)險,推動功率元器件國產(chǎn)化進程。
SOP封裝標準涵蓋了SOP-8、SOP-16、SOP-20、SOP-28等多種規(guī)格,其中數(shù)字部分表示引腳數(shù)量。在MOSFET的封裝中,SOP-8規(guī)格被***采用,且業(yè)界常將P*部分省略,簡稱為so(Small Out-Line)。
SO-8采用塑料封裝,未配備散熱底板,因此散熱效果一般,主要適用于小功率MOSFET。
SO-8封裝技術(shù)**初由PHILIP公司開發(fā),隨后逐漸演變?yōu)門SOP(薄小外形封裝)、VSOP(甚小外形封裝)、SSOP(縮小型SOP)以及TSSOP(薄的縮小型SOP)等標準規(guī)格。
在這些派生的封裝規(guī)格中,TSOP和TSSOP這兩種規(guī)格常被用于MOSFET的封裝。同時,QFN-56封裝也值得一提。
QFN(QuadFlatNon-leadedpackage)即四邊無引線扁平封裝,是一種新興的表面貼裝芯片封裝技術(shù)。其特點在于焊盤尺寸小、體積緊湊,且采用塑料作為密封材料。如今,該技術(shù)常被稱作LCC。 商甲半導(dǎo)體提供汽車電子應(yīng)用MOSFET選型。
Trench工藝
定義和原理
Trench工藝是一種三維結(jié)構(gòu)的MOSFET加工技術(shù),通過挖掘溝槽(Trench)的方式,在硅襯底內(nèi)部形成溝槽結(jié)構(gòu),使得源、漏、柵三個區(qū)域更為獨一立,并能有效降低器件的漏電流。
制造過程
蝕刻溝槽:在硅片表面進行刻蝕,形成Trench結(jié)構(gòu)。
填充絕緣層:在溝槽內(nèi)填充絕緣材料,防止漏電。
柵極沉積:在溝槽開口處沉積金屬形成柵極。
特點
提高了器件的性能和穩(wěn)定性,減小漏電流。
適用于高功率、高頻應(yīng)用。
制作工藝復(fù)雜,成本較高。 無錫商甲半導(dǎo)體提供種類齊全MOSFET產(chǎn)品組合,滿足市場對高效能導(dǎo)通和靈活選擇的需求。代理MOSFET選型參數(shù)聯(lián)系方式
無錫商甲半導(dǎo)體有限公司致力于自主知識產(chǎn)權(quán)的功率芯片可持續(xù)進步及傳承。上海MOSFET選型參數(shù)產(chǎn)品選型
商家半導(dǎo)體有各類封裝的MOSFET產(chǎn)品。
功率場效應(yīng)管與雙極型功率晶體管之間的特性比較如下:
1. 驅(qū)動方式:場效應(yīng)管是電壓驅(qū)動,電路設(shè)計比較簡單,驅(qū)動功率??;功率晶體管是電流驅(qū)動,設(shè)計較復(fù)雜,驅(qū)動條件選擇困難,驅(qū)動條件會影響開關(guān)速度。
2. 開關(guān)速度:場效應(yīng)管無少數(shù)載流子存儲效應(yīng),溫度影響小,開關(guān)工作頻率可達150KHz以上;功率晶體管有少數(shù)載流子存儲時間限制其開關(guān)速度,工作頻率一般不超過50KHz。
3. 安全工作區(qū):功率場效應(yīng)管無二次擊穿,安全工作區(qū)寬;功率晶體管存在二次擊穿現(xiàn)象,限制了安全工作區(qū)。
4. 導(dǎo)體電壓:功率場效應(yīng)管屬于高電壓型,導(dǎo)通電壓較高,有正溫度系數(shù);功率晶體管無論耐電壓的高低,導(dǎo)體電壓均較低,具有負溫度系數(shù)。
5. 峰值電流:功率場效應(yīng)管在開關(guān)電源中用做開關(guān)時,在啟動和穩(wěn)態(tài)工作時,峰值電流較低;而功率晶體管在啟動和穩(wěn)態(tài)工作時,峰值電流較高。
6. 產(chǎn)品成本:功率場效應(yīng)管的成本略高;功率晶體管的成本稍低。
7. 熱擊穿效應(yīng):功率場效應(yīng)管無熱擊穿效應(yīng);功率晶體管有熱擊穿效應(yīng)。8. 開關(guān)損耗:場效應(yīng)管的開關(guān)損耗很小;功率晶體管的開關(guān)損耗比較大。 上海MOSFET選型參數(shù)產(chǎn)品選型
無錫商甲半導(dǎo)體有限公司成立于2023年8月3日,注冊地位于無錫經(jīng)濟開發(fā)區(qū)太湖灣信息技術(shù)產(chǎn)業(yè)園1號樓908室。公司專注于功率半導(dǎo)體器件的研發(fā)設(shè)計與銷售,采用Fabless模式開發(fā)Trench MOSFET、IGBT等產(chǎn)品,截至2023年12月,公司已設(shè)立深圳分公司拓展華南市場 ,并獲評2024年度科技型中小企業(yè)。
無錫商甲半導(dǎo)體有限公司利用技術(shù)優(yōu)勢,以國內(nèi)***技術(shù)代Trench/SGT產(chǎn)品作為***代產(chǎn)品;產(chǎn)品在FOM性能方面占據(jù)***優(yōu)勢,結(jié)合先進封裝獲得的更高電流密度;打造全系列N/P溝道車規(guī)級MOSFET,為日益增長的汽車需求助力;打造全系列CSPMOSFET,聚焦SmallDFN封裝;未來兩年內(nèi)做全硅基產(chǎn)品線并拓展至寬禁帶領(lǐng)域;