HERCULES ® NIL特征：
全自動UV-NIL壓印和低力剝離
最多300毫米的基材
完全模塊化的平臺，具有多達八個可交換過程模塊（壓印和預(yù)處理）
200毫米/ 300毫米橋接工具能力
全區(qū)域烙印覆蓋
批量生產(chǎn)最小40 nm或更小的結(jié)構(gòu)
支持各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀，包括3D
適用于高地形（粗糙）表面
*分辨率取決于過程和模板
HERCULES ® NIL技術(shù)數(shù)據(jù)：
晶圓直徑（基板尺寸）：100至200毫米/ 200和300毫米
解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）
支持流程：SmartNIL ®
曝光源：大功率LED（i線）> 400 mW /cm2
對準：≤±3微米
自動分離：支持的
前處理：提供所有預(yù)處理模塊
迷你環(huán)境和氣候控制：可選的
工作印章制作：支持的
EV Group能夠提供混合和單片微透鏡成型工藝。重慶實驗室納米壓印
面板廠為補償較低的開口率，多運用在背光模塊搭載較多LED的技術(shù)，但此作法的缺點是用電量較高。若運用NIL制程，可確保適當(dāng)?shù)拈_口率，降低用電量。利用一般曝光設(shè)備也可在玻璃基板上形成偏光膜。然8代曝光設(shè)備一次可形成的圖樣面積較小。若要制造55吋面板，需要經(jīng)過數(shù)十次的曝光制程。不僅制程時間長，經(jīng)過多次曝光后，在圖樣間會形成細微的縫隙，無法完整顯示影像。若將NIL技術(shù)應(yīng)用在5代設(shè)備，可一次形成55吋、60吋面板的偏光膜圖樣。在8代基板可制造6片55吋面板，6次的壓印接觸可處理完1片8代基板。南韓業(yè)者表示，在玻璃基板上形成偏光圖樣以提升質(zhì)量的生產(chǎn)制程，是LCD領(lǐng)域中***一個創(chuàng)新任務(wù)。若加速NIL制程導(dǎo)入LCD生產(chǎn)的時程，偏光膜企業(yè)的營收可能減少。（來自網(wǎng)絡(luò)。圖像傳感器納米壓印現(xiàn)場服務(wù)EVG ? 610也可以設(shè)計成紫外線納米壓印光刻系統(tǒng)。
EVG ® 770特征：
微透鏡用于晶片級光學(xué)器件的高 效率制造主下降到納米結(jié)構(gòu)為SmartNIL ®
簡單實施不同種類的大師
可變抗蝕劑分配模式
分配，壓印和脫模過程中的實時圖像
用于壓印和脫模的原位力控制
可選的光學(xué)楔形誤差補償
可選的自動盒帶間處理
EVG ® 770技術(shù)數(shù)據(jù)：
晶圓直徑（基板尺寸）：100至300毫米
解析度：≤50 nm（分辨率取決于模板和工藝）
支持流程：柔軟的UV-NIL
曝光源：大功率LED（i線）> 100 mW /cm2
對準：頂側(cè)顯微鏡，用于實時重疊校準≤±500 nm和精細校準≤±300 nm
首 個印刷模具到模具的放置精度：≤1微米
有效印記區(qū)域：長達50 x 50毫米
自動分離：支持的
前處理：涂層：液滴分配（可選）
IQ Aligner UV-NIL特征：
用于光學(xué)元件的微成型應(yīng)用
用于全場納米壓印應(yīng)用
三個獨立控制的Z軸，可在印模和基材之間實現(xiàn)出色的楔形補償
三個獨立控制的Z軸，用于壓印抗蝕劑的總厚度變化（TTV）控制
利用柔軟的印章進行柔軟的UV-NIL工藝
EVG專有的全自動浮雕功能
抵抗分配站集成
粘合對準和紫外線粘合功能
IQ Aligner UV-NIL技術(shù)數(shù)據(jù)：
晶圓直徑（基板尺寸）：150至300毫米
解析度：≤50 nm（分辨率取決于模板和工藝）
支持流程：柔軟的UV-NIL，鏡片成型
曝光源：汞光源
對準：≤±0.5微米
自動分離：支持的
前處理：涂層：水坑點膠（可選）
迷你環(huán)境和氣候控制：可選的
工作印章制作：支持的
SmartNIL 非常適合對具有復(fù)雜納米結(jié)構(gòu)微流控芯片進行高精度圖案化，用在下一代藥 物研究和醫(yī)學(xué)診斷設(shè)備生產(chǎn)。
IQ Aligner UV-NIL 自動化紫外線納米壓印光刻系統(tǒng)
應(yīng)用：用于晶圓級透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統(tǒng)
IQ Aligner UV-NIL系統(tǒng)允許使用直徑從150 mm至300 mm的壓模和晶片進行微成型和納米壓印工藝，非常適合高度平行地制造聚合物微透鏡。該系統(tǒng)從從晶圓尺寸的主圖章復(fù)制的軟性圖章開始，提供了混合和整體式微透鏡成型工藝，可以輕松地將其與工作圖章和微透鏡材料的各種材料組合相適應(yīng)。此外，EV Group提供合格的微透鏡成型工藝，包括所有相關(guān)的材料專業(yè)知識。EV Group專有的卡盤設(shè)計可為高產(chǎn)量大面積印刷提供均勻的接觸力。配置包括從壓印基材上釋放印章的釋放機制。
EVG620 NT支持多種標(biāo)準光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，以及背面對準選項。碳化硅納米壓印廠家
HERCULES NIL 300 mm提供市場上最 先 進納米壓印功能，具有較低的力和保形壓印，快速高功率曝光和平滑壓模分離。重慶實驗室納米壓印
EV Group的一系列高精度熱壓花系統(tǒng)基于該公司市場領(lǐng)先的晶圓鍵合技術(shù)。出色的壓力和溫度控制以及大面積上的均勻性可實現(xiàn)高精度的壓印。熱壓印是一種經(jīng)濟高 效且靈活的制造技術(shù)，具有非常高的復(fù)制精度，可用于最小50 nm的特征尺寸。該系統(tǒng)非常適合將復(fù)雜的微結(jié)構(gòu)和納米結(jié)構(gòu)以及高長寬比的特征壓印到各種聚合物基材或旋涂聚合物中。
NILPhotonics®能力中心-支持和開發(fā)
NILPhotonics能力中心是經(jīng)過驗證的創(chuàng)新孵化器。
歡迎各位客戶來樣制作，驗證EVG的納米壓印設(shè)備的性能。
重慶實驗室納米壓印
岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司位于中國(上海)自由貿(mào)易試驗區(qū)加太路39號第五層六十五部位，是一家專業(yè)的磁記錄、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù)，國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易，商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準的項目，經(jīng)相關(guān)部門批準后方可開展經(jīng)營活動】磁記錄、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù)，國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易，商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準的項目，經(jīng)相關(guān)部門批準后方可開展經(jīng)營活動】公司。專業(yè)的團隊大多數(shù)員工都有多年工作經(jīng)驗，熟悉行業(yè)專業(yè)知識技能，致力于發(fā)展岱美儀器技術(shù)服務(wù)的品牌。我公司擁有強大的技術(shù)實力，多年來一直專注于磁記錄、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù)，國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易，商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準的項目，經(jīng)相關(guān)部門批準后方可開展經(jīng)營活動】磁記錄、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù)，國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易，商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準的項目，經(jīng)相關(guān)部門批準后方可開展經(jīng)營活動】的發(fā)展和創(chuàng)新，打造高指標(biāo)產(chǎn)品和服務(wù)。誠實、守信是對企業(yè)的經(jīng)營要求，也是我們做人的基本準則。公司致力于打造高品質(zhì)的磁記錄，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn)，測試儀器的批發(fā)。