HERCULES ® NIL完全模塊化和集成SmartNIL ® UV-NIL系統(tǒng)達(dá)300毫米
結(jié)合EVG的SmartNIL一個(gè)完全模塊化平臺(tái)®技術(shù)支持AR / VR，3D傳感器，光子和生物技術(shù)生產(chǎn)應(yīng)用
EVG的HERCULES NIL 300 mm是一個(gè)完全集成的跟 蹤系統(tǒng)，將清潔，抗蝕劑涂層和烘烤預(yù)處理步驟與EVG專有的SmartNIL大面積納米壓印光刻（NIL）工藝結(jié)合在一個(gè)平臺(tái)上，用于直徑最 大為300 mm的晶圓。它是第 一個(gè)基于EVG的全模塊化設(shè)備平臺(tái)和可交換模塊的NIL系統(tǒng)，可為客戶提供最 大的自由度來(lái)配置他們的系統(tǒng)，以最 好地滿足其生產(chǎn)需求，包括200 mm和300 mm晶圓的橋接功能。
EVG高達(dá)300 mm的高精度聚合物透鏡成型和堆疊設(shè)備支持晶圓級(jí)光學(xué)（WLO）的制造。遼寧納米壓印保修期多久
EVG ® 720自動(dòng)SmartNIL
® UV納米壓印光刻系統(tǒng)
自動(dòng)全視野的UV納米壓印溶液達(dá)150毫米，設(shè)有EVG's專有SmartNIL ®技術(shù)
EVG720系統(tǒng)利用EVG的創(chuàng)新SmartNIL技術(shù)和材料專業(yè)知識(shí)，能夠大規(guī)模制造微米和納米級(jí)結(jié)構(gòu)。具有SmartNIL技術(shù)的EVG720系統(tǒng)能夠在大面積上印刷小至40 nm *的納米結(jié)構(gòu)，具有無(wú)與倫比的吞吐量，非常適合批量生產(chǎn)下一代微流控和光子器件，例如衍射光學(xué)元件（ DOEs）。
*分辨率取決于過(guò)程和模板
如果需要詳細(xì)的信息，請(qǐng)聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。也可以訪問(wèn)官網(wǎng)，獲得更多信息。 浙江納米壓印供應(yīng)商家EVG?610/EVG?620NT /EVG?6200NT是具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)。
IQ Aligner®：用于晶圓級(jí)透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統(tǒng)
■用于光學(xué)元件的微成型應(yīng)用
■用于全場(chǎng)納米壓印應(yīng)用
■三個(gè)獨(dú)立控制的Z軸，用于控制壓印光刻膠的總厚度變化（TTV），并在壓模和基材之間實(shí)現(xiàn)出色的楔形補(bǔ)償
■粘合對(duì)準(zhǔn)和紫外線粘合功能
紫外線壓印_紫外線固化
印章
防紫外線基材
附加印記壓印納米結(jié)構(gòu)分離印記
用紫外線可固化的光刻膠旋涂或滴涂基材。隨后，將壓模壓入光刻膠并在仍然接觸的情況下通過(guò)UV光交聯(lián)。
μ-接觸印刷
軟印章
基板上的材料
領(lǐng)取物料，物料轉(zhuǎn)移，刪除印章
EVG610特征：
頂部和底部對(duì)準(zhǔn)能力
高精度對(duì)準(zhǔn)臺(tái)
自動(dòng)楔形誤差補(bǔ)償機(jī)制
電動(dòng)和程序控制的曝光間隙
支持最 新的UV-LED技術(shù)
最小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求
分步流程指導(dǎo)
遠(yuǎn)程技術(shù)支持
多用戶概念（無(wú)限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問(wèn)權(quán)限，不同的用戶界面語(yǔ)言）
敏捷處理和光刻工藝之間的轉(zhuǎn)換
臺(tái)式或帶防震花崗巖臺(tái)的單機(jī)版
EVG610附加功能：
鍵對(duì)準(zhǔn)
紅外對(duì)準(zhǔn)
納米壓印光刻
μ接觸印刷
EVG610技術(shù)數(shù)據(jù)：
晶圓直徑（基板尺寸）
標(biāo)準(zhǔn)光刻：最 大150毫米的碎片
柔軟的UV-NIL：最 大150毫米的碎片
解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）
支持流程：柔軟的UV-NIL
曝光源：汞光源或紫外線LED光源
自動(dòng)分離：不支持
工作印章制作：外部
SmartNIL集成了多次使用的軟標(biāo)記處理功能，因此還可以實(shí)現(xiàn)無(wú)與倫比的吞吐量。
具體說(shuō)來(lái)就是，MOSFET能夠有效地產(chǎn)生電流流動(dòng)，因?yàn)闃?biāo)準(zhǔn)的半導(dǎo)體制造技術(shù)旺旺不能精確控制住摻雜的水平（硅中摻雜以帶來(lái)或正或負(fù)的電荷），以確保跨各組件的通道性能的一致性。通常MOSFET是在一層二氧化硅（SiO2）襯底上，然后沉積一層金屬或多晶硅制成的。然而這種方法可以不精確且難以完全掌控，摻雜有時(shí)會(huì)泄到別的不需要的地方，那樣就創(chuàng)造出了所謂的“短溝道效應(yīng)”區(qū)域，并導(dǎo)致性能下降。一個(gè)典型MOSFET不同層級(jí)的剖面圖。不過(guò)威斯康星大學(xué)麥迪遜分校已經(jīng)同全美多個(gè)合作伙伴攜手（包括密歇根大學(xué)、德克薩斯大學(xué)、以及加州大學(xué)伯克利分校等），開(kāi)發(fā)出了能夠降低摻雜劑泄露以提升半導(dǎo)體品質(zhì)的新技術(shù)。研究人員通過(guò)電子束光刻工藝在表面上形成定制形狀和塑形，從而帶來(lái)更加“物理可控”的生產(chǎn)過(guò)程。（來(lái)自網(wǎng)絡(luò)。EVG的納米壓印設(shè)備已使納米圖案能夠在面板尺寸最 大為第三代（550 mm x 650 mm）的基板上實(shí)現(xiàn)。海南納米壓印研發(fā)生產(chǎn)
IQ Aligner?是EVG的可用于晶圓級(jí)透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統(tǒng)。遼寧納米壓印保修期多久
UV納米壓印光刻系統(tǒng)
EVG®610/EVG®620NT /EVG®6200NT：具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)
■高精度對(duì)準(zhǔn)臺(tái)
■自動(dòng)楔形誤差補(bǔ)償機(jī)制
■電動(dòng)和程序控制的曝光間隙
■支持最 新的UV-LED技術(shù)
■最小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求
EVG®720/EVG®7200/EVG®7200LA：自動(dòng)化的全場(chǎng)納米壓印解決方案，適用于第3代基材
■體積驗(yàn)證的壓印技術(shù)，具有出色的復(fù)制保真度
■專有的SmartNIL®技術(shù)和多用途聚合物印章技術(shù)
■集成式壓印，UV固化，脫模和工作印模制作
■盒帶間自動(dòng)處理以及半自動(dòng)研發(fā)模式
■適用于所有市售壓印材料的開(kāi)放平臺(tái)
遼寧納米壓印保修期多久
岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司是一家其他型類企業(yè)，積極探索行業(yè)發(fā)展，努力實(shí)現(xiàn)產(chǎn)品創(chuàng)新。公司是一家有限責(zé)任公司企業(yè)，以誠(chéng)信務(wù)實(shí)的創(chuàng)業(yè)精神、專業(yè)的管理團(tuán)隊(duì)、踏實(shí)的職工隊(duì)伍，努力為廣大用戶提供高品質(zhì)的產(chǎn)品。公司始終堅(jiān)持客戶需求優(yōu)先的原則，致力于提供高質(zhì)量的磁記錄，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn)，測(cè)試儀器的批發(fā)。岱美儀器技術(shù)服務(wù)將以真誠(chéng)的服務(wù)、創(chuàng)新的理念、高品質(zhì)的產(chǎn)品，為彼此贏得全新的未來(lái)！