二維輪廓儀供應(yīng)商

白光干涉輪廓儀對比激光共聚焦輪廓儀

白光干涉3D顯微鏡：

干涉面成像，

多層垂直掃描

最 好高度測量精度：< 1nm

高度精度不受物鏡影響

性價(jià)比好

激光共聚焦3D顯微鏡：

點(diǎn)掃描合成面成像，

多層垂直掃描

Keyence（日本）

最 好高度測量精度：～10nm

高度精度由物鏡決定，1um精度@10倍

90萬-130萬

三維光學(xué)輪廓儀采用白光軸向色差原理（性能優(yōu)于白光干涉輪廓儀與激光干涉輪廓儀）對樣品表面進(jìn)行快速、重復(fù)性高、高 分辨率的三維測量，測量范圍可從納米級粗糙度到毫米級的表面形貌，臺階高度，給MEMS、半導(dǎo)體材料、太陽能電池、醫(yī)療工程、制藥、生物材料，光學(xué)元件、陶瓷和先進(jìn)材料的研發(fā)和生產(chǎn)提供了一個(gè)精確的、價(jià)格合理的計(jì)量方案。（來自網(wǎng)絡(luò)） 反射光通過MPD的針 孔減小到聚焦的部分落在CCD相機(jī)上。二維輪廓儀供應(yīng)商

    比較橢圓偏振儀和光譜反射儀光譜橢圓偏振儀(SE)和光譜反射儀(SR)都是利用分析反射光確定電介質(zhì)，半導(dǎo)體，和金屬薄膜的厚度和折射率。兩者的主要區(qū)別在于橢偏儀測量小角度從薄膜反射的光,而光譜反射儀測量從薄膜垂直反射的光。獲取反射光譜指南入射光角度的不同造成兩種技術(shù)在成本，復(fù)雜度，和測量能力上的不同。由于橢偏儀的光從一個(gè)角度入射，所以一定要分析反射光的偏振和強(qiáng)度，使得橢偏儀對超薄和復(fù)雜的薄膜堆有較強(qiáng)的測量能力。然而，偏振分析意味著需要昂貴的精密移動光學(xué)儀器。光譜反射儀測量的是垂直光，它忽略偏振效應(yīng)（絕大多數(shù)薄膜都是旋轉(zhuǎn)對稱）。因?yàn)椴簧婕叭魏我苿釉O(shè)備，光譜反射儀成為簡單低成本的儀器。光譜反射儀可以很容易整合加入更強(qiáng)大透光率分析。從下面表格可以看出,光譜反射儀通常是薄膜厚度超過10um的首 選，而橢偏儀側(cè)重薄于10nm的膜厚。在10nm到10um厚度之間，兩種技術(shù)都可用。而且具有快速，簡便，成本低特點(diǎn)的光譜反射儀通常是更好的選擇。光譜反射率光譜橢圓偏振儀厚度測量范圍1nm-1mm(非金屬)-50nm(金屬)*-(非金屬)-50nm(金屬)測量折射率的厚度要求>20nm(非金屬)5nm-50nm(金屬)>5nm(非金屬)>。ADE輪廓儀試用由于光罩中電路結(jié)構(gòu)尺寸極小，任何微小的黏附異物和下次均會導(dǎo)致制造的晶圓IC表面存在缺 陷。

輪廓儀，能描繪工件表面波度與粗糙度，并給出其數(shù)值的儀器，采用精密氣浮導(dǎo)軌為直線基準(zhǔn)。輪廓測試儀是對物體的輪廓、二維尺寸、二維位移進(jìn)行測試與檢驗(yàn)的儀器，作為精密測量儀器在汽車制造和鐵路行業(yè)的應(yīng)用十分廣 泛。（來自網(wǎng)絡(luò)）

先進(jìn)的輪廓儀集成模塊

60年世界水平半導(dǎo)體檢測技術(shù)研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化經(jīng)驗(yàn) 

所有的關(guān)鍵硬件采用美國、德國、日本等 

PI ，納米移動平臺及控制

Nikon，干涉物鏡

NI，信號控制板和Labview64

控制軟件

TMC 隔震平臺

世界先進(jìn)水平的計(jì)算機(jī)軟硬件技術(shù)平臺

VS2012/64位，.NET/C#/WPF

Intel Xeon 計(jì)算機(jī)

輪廓儀白光干涉的創(chuàng)始人：

邁爾爾遜

1852-1931

美國物理學(xué)家

曾從事光速的精密測量工作  

邁克爾遜首倡用光波波長作為長度基準(zhǔn)。

1881年，他發(fā)明了一種用以測量微小長度，折射率和光波波長的干涉儀，邁克爾遜干涉儀。

他和美國物理學(xué)家莫雷合作，進(jìn)行了著 名的邁克爾遜-莫雷實(shí)驗(yàn)，否定了以太de 存在，為愛因斯坦建立狹義相對論奠定了基礎(chǔ)。

由于創(chuàng)制了精密的光學(xué)儀器和利用這些儀器所完成光譜學(xué)和基本度量學(xué)研究，邁克爾遜于1907年獲得諾貝爾物理學(xué)獎。 儀器運(yùn)用高性能內(nèi)部抗震設(shè)計(jì)，不受外部環(huán)境影響測量的準(zhǔn)確性。

輪廓儀產(chǎn)品應(yīng)用

藍(lán)寶石拋光工藝表面粗糙度分析（粗拋與精拋比較）

高精密材料表面缺 陷超精密表面缺 陷分析，核探測

Oled 特征結(jié)構(gòu)測量，表面粗糙度  

外延片表面缺 陷檢測

硅片外延表面缺 陷檢測

散熱材料表面粗糙度分析（粗糙度控制）

生物、醫(yī)藥新技術(shù)，微流控器件

微結(jié)構(gòu)均勻性 缺 陷，表面粗糙度

移相算法的優(yōu)化和軟件系統(tǒng)的開發(fā) 本作品采用重疊平均移相干涉算法，保證了亞納米量級的測量精度；優(yōu)化軟件控制系統(tǒng)，使每次檢測時(shí)間壓縮到10秒鐘以內(nèi)，同時(shí)完善的數(shù)據(jù)評價(jià)系統(tǒng)為用戶評價(jià)產(chǎn)品面形質(zhì)量提供了方便。 自動聚焦范圍 ： ± 0.3mm。Nano X輪廓儀用途

晶圓的IC制造過程可簡單看作是將光罩上的電路圖通過UV刻蝕到鍍膜和感光層后的硅晶圓上這一過程。二維輪廓儀供應(yīng)商

隨著現(xiàn)在科學(xué)技術(shù)的發(fā)展，儀器儀表行業(yè)發(fā)生了突飛猛進(jìn)的發(fā)展，再加上當(dāng)前計(jì)算機(jī)技術(shù)、網(wǎng)絡(luò)技術(shù)的進(jìn)步和發(fā)展，組建網(wǎng)絡(luò)而構(gòu)成實(shí)用的監(jiān)控系統(tǒng)，可以提高生產(chǎn)效率和共享信息資源方向發(fā)展。當(dāng)前儀器儀表行業(yè)產(chǎn)品發(fā)展呈現(xiàn)微型化、多功能化、智能化、網(wǎng)絡(luò)化四大發(fā)展趨勢。進(jìn)一步提升我國儀器儀表技術(shù)和水平，有限責(zé)任公司企業(yè)要順應(yīng)產(chǎn)業(yè)發(fā)展潮流，在穩(wěn)固常規(guī)品種的同時(shí)，進(jìn)一步發(fā)展智能儀器儀表，提升產(chǎn)業(yè)數(shù)字化、智能化、集成化水平。伴隨移動互聯(lián)網(wǎng)的爆發(fā)式增長，如今，它已經(jīng)漸漸取代電子商務(wù)成為了整個(gè)互聯(lián)網(wǎng)產(chǎn)業(yè)增速最快的領(lǐng)域，而移動終端的入口也隨即成為了傳統(tǒng)行業(yè)的必爭之地。磁記錄，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn)，測試儀器的批發(fā)行業(yè)進(jìn)軍移動互聯(lián)網(wǎng)實(shí)現(xiàn)線上發(fā)展勢在必行。隨著中國的不斷進(jìn)步，世界上只有一個(gè)救世主——市場，能救企業(yè)的只有你自己——自強(qiáng)，提高其他型重點(diǎn)競爭力才是中國制造業(yè)的獨(dú)一出路。以顯微科學(xué)儀器行業(yè)的發(fā)展與變化為例，以親身的實(shí)踐為例，毛磊認(rèn)為，隨著經(jīng)濟(jì)的不斷發(fā)展，我國的環(huán)境和實(shí)力都發(fā)生了巨大變化，有了完全不同的基礎(chǔ)，這為國產(chǎn)科學(xué)儀器走向高端增強(qiáng)了信心。二維輪廓儀供應(yīng)商

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司位于中國(上海)自由貿(mào)易試驗(yàn)區(qū)加太路39號第五層六十五部位，交通便利，環(huán)境優(yōu)美，是一家其他型企業(yè)。岱美儀器技術(shù)服務(wù)是一家有限責(zé)任公司企業(yè)，一直“以人為本，服務(wù)于社會”的經(jīng)營理念;“誠守信譽(yù)，持續(xù)發(fā)展”的質(zhì)量方針。公司業(yè)務(wù)涵蓋磁記錄，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn)，測試儀器的批發(fā)，價(jià)格合理，品質(zhì)有保證，深受廣大客戶的歡迎。岱美儀器技術(shù)服務(wù)以創(chuàng)造高品質(zhì)產(chǎn)品及服務(wù)的理念，打造高指標(biāo)的服務(wù)，引導(dǎo)行業(yè)的發(fā)展。