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來源: 發(fā)布時間:2021-11-04

阿爾法經(jīng)濟研究硅片清洗的三大步驟是:經(jīng)過終拋光處理的硅片先要進行預(yù)清洗,然后再進行物理尺寸、電阻率、翹曲度和平整度等外掛檢測,經(jīng)檢測合格后硅片便進入終清洗工序。在硅片清洗中常用的方法是RCA法,是由Kern和Puotinen等人首創(chuàng)的化學(xué)清洗方法,也是集成電路制造中一種典型的濕化學(xué)清洗法,其所用的清洗液主要有四種:由硫酸和雙氧水配制而成的SC3(StandardClean-3)清洗液,需要加熱到120-150攝氏度;經(jīng)過稀釋的氫氟酸,溫度需控制在20-25度;由氨水、雙氧水和純水混合而成的SC1(StandardClean-1)清洗液,需加熱到70-80度,以及由鹽酸、雙氧水和純水混合而成的SC2(StandardClean-2)清洗液,需加熱到70-80度。在實際應(yīng)用中硅片清洗機一般采用RCA清洗+物理清洗+干燥組合工藝方案,干燥采用離心甩干并結(jié)合腔內(nèi)潔凈空氣強對流干燥、馬蘭戈尼干燥、熱氮氣干燥、異丙醇氣相干燥等方法。由于離心干燥對干燥后的硅片表面顆粒控制較差,一般用于200mm及以下尺寸硅片干燥,200/300mm硅片通常采用異丙醇氣相干燥或馬蘭戈尼干燥。清洗液類型、兆聲波頻率、干燥方式、清洗方式(如溶液循環(huán)溢流、在線加熱)等。昆山尚斯德精密機械有限公司致力于提供 清洗機,竭誠為您服務(wù)。江西全自動燒結(jié)爐網(wǎng)帶清洗機電話

從而有效去除有機物雜質(zhì)。但是高濃度的硫酸往往會將有機物碳化,SPM溶液無法除去碳化后的有機物。DHF即稀HF溶液,HF:H2O為1:100~1:250[6]之間,在20~25℃之間具有較強的腐蝕性,可以有效去除硅片表面的自然氧化層,同時與氧化層中的金屬元素(Al、Zn、Fe等)發(fā)生氧化還原反應(yīng),形成金屬離子進而被除去,而且不影響硅片表層的硅原子。SC-1即NH3·H2O和H2O2和H2O按照1:1:5的比例配置而成,于70℃清洗10min,硅片表面的硅原子薄層被NH3·H2O腐蝕剝落,連帶在硅片表面的顆粒狀雜質(zhì)隨之脫落進入到清洗液中,從而有效去除顆粒雜質(zhì)。實驗表明,當(dāng)H2O:H2O2:NH3·H2O為5:1:[7]時,顆粒的去除率高,但是增加了硅片表層的粗糙度和缺陷。SC-2即HCl和H2O2和H2O按照1:1:5[8]的比例配置而成,于70℃清洗10min,硅片表面的金屬及其化合物產(chǎn)生氧化還原反應(yīng),形成金屬離子進入到清洗液中,從而有效去除金屬雜質(zhì)。實驗表明,當(dāng)溶液的PH值在3~,不僅可以去除金屬及其氧化物,而且可以防止金屬離子的再次附著[9]。按照SPM、DHF、SC-1、SC-2順序的RCA清洗技術(shù)基本上滿足了大部分硅片潔凈度的要求,而且使硅片表面鈍化。TMPan[10]等人在RCA清洗的SC-1過程中加入了羥化四甲胺。青海智能在線清洗機出廠價昆山尚斯德精密機械有限公司清洗機值得用戶放心。

清洗機的結(jié)構(gòu)組成:清洗機是集泵、閥、高壓水噴射、機械結(jié)構(gòu)、輸送、自動化等主要技術(shù)以及密封、通風(fēng)、熱交換、清洗液過濾、除油、除屑等輔助技術(shù)為一體的成套裝置[4],一般由傳輸、清洗、過濾、干燥、除油、排渣、電控等幾大系統(tǒng)組成?,F(xiàn)將各系統(tǒng)作用及實現(xiàn)方式介紹如下。傳輸系統(tǒng):傳輸系統(tǒng)是清洗機的重要組成部分,其設(shè)計的優(yōu)劣直接影響整機性能。清洗機傳輸系統(tǒng)的設(shè)計應(yīng)滿足工作平穩(wěn)、結(jié)構(gòu)簡單、零部件不易磨損、定位準確、端部卸料方便等技術(shù)要求。傳輸系統(tǒng)的實現(xiàn)方式有步進式、抬起步進式、鏈板式、鏈條小車式、機動輥道式等多種形式,其中抬起步進式又有氣動、液壓、電動之分

鍍膜前清洗鍍膜前清洗的主要污染物是求芯油(也稱磨邊油,求芯也稱定芯、取芯,指為了得到規(guī)定的半徑及芯精度而選用的工序)、手印、灰塵等。由于鍍膜工序?qū)︾R片潔凈度的要求極為嚴格,因此清洗劑的選擇是很重要的。在考慮某種清洗劑的清洗能力的同時,還要考慮到他的腐蝕性等方面的問題。頻率超聲波清洗機工作頻率很低(在人的聽覺范圍內(nèi))就會產(chǎn)生噪音。當(dāng)頻率低于20kHz時,工作噪音不僅變得很大,而且可能超出職業(yè)安全與保健法或其它條例所規(guī)定的安全噪音的限度。在需要高功率去除污垢而不用考慮工件表面損傷的應(yīng)用中,通常選擇從20kHz到30kHz范圍內(nèi)的較低清洗頻率。該頻率范圍內(nèi)的清洗頻率常常被用于清洗大型、重型零件或高密度材料的工 昆山尚斯德精密機械有限公司是一家專業(yè)提供清洗機的公司,有想法的可以來電咨詢!

同時高集成化的器件要求硅片清洗要盡量減少對硅片表面的破壞和損傷,盡量減少溶液本身或工藝過程中帶來的沾污,滿足亞微米級器件的工藝要求,這對濕法清洗是一項巨大的挑戰(zhàn)。干法清洗技術(shù)能夠在線硅片上的顆粒、有機物等沾污,清洗的精度達到了微米級,對硅片表面無損傷,是一種具有很好發(fā)展前景的清洗技術(shù)。但是由于技術(shù)方面的欠缺,導(dǎo)致干法清洗技術(shù)的成本較高,一直制約著其大面積的推廣和發(fā)展。3結(jié)束語隨著光伏電池和半導(dǎo)體科技的發(fā)展,對于硅片表面潔凈度的要求越來越高,達到了微米級甚至納米級的要求,這對目前的硅片表面清洗技術(shù)無疑是一項巨大的挑戰(zhàn),優(yōu)化和改善硅片的清洗技術(shù)迫在眉睫。針對當(dāng)前的濕法清洗和干法清洗技術(shù),可以從多個方面進行改良,從而實現(xiàn)硅片表面潔凈度的嚴格要求。(1)濕法清洗對于化學(xué)藥劑有很大的依賴性,有機物、氧化層、顆粒、金屬離子等不同的雜質(zhì)需要性質(zhì)不同的化學(xué)藥劑,既增加了工序又提高了成本而且產(chǎn)生的廢液會造成環(huán)境污染,簡化濕法清洗的工藝,例如RCA清洗,可以通過研發(fā)新型的活劑和螯合劑,來縮短工藝提高雜質(zhì)的去除效率。(2)減小清洗工藝對硅片表面的損壞是非常重要的。昆山尚斯德精密機械有限公司為您提供 清洗機,有想法的可以來電咨詢!新疆烘箱網(wǎng)帶在線清洗機制造廠家

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超聲波清洗機打開電源開關(guān),指示燈不亮,沒有超聲輸出。原因:A.電源開關(guān)損壞,沒有電源輸入;B.保險絲熔斷。超聲波清洗機打開電源開關(guān)后,指示燈亮,但沒有超聲波輸出。原因:A.換能器與超聲波功率板的連接插頭松脫;B.保險絲熔斷;C.超聲功率發(fā)生器故障;D.換能器故障。超聲波清洗機直流保險絲熔斷。原因:A.整流橋堆或功率管燒毀;B.換能器故障。超聲波清洗機打開電源開關(guān)后,機器有超聲波輸出,但清洗效果未如理想。原因:清洗槽內(nèi)清洗液液位不當(dāng).江西全自動燒結(jié)爐網(wǎng)帶清洗機電話

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