藍(lán)寶石研磨液利用聚晶金剛石的特性,在研磨拋光過程中保持高切削效率的同時(shí)不易對(duì)工件產(chǎn)生劃傷??梢詰?yīng)用在藍(lán)寶石襯底的研磨和減薄、光學(xué)晶體、硬質(zhì)玻璃和晶體、超硬陶瓷和合金、磁頭、硬盤、芯片等領(lǐng)域的研磨和拋光。藍(lán)寶石研磨液在藍(lán)寶石襯底方面的應(yīng)用:1.外延片生產(chǎn)前襯底的雙面研磨:多用藍(lán)寶石研磨液研磨一道或多道,根據(jù)**終藍(lán)寶石襯底研磨要求用6um、3um、1um不等。2.LED芯片背面減薄為解決藍(lán)寶石的散熱問題,需要將藍(lán)寶石襯底的厚度減薄,從450nm左右減至100nm左右。主要有兩步:先在橫向減薄機(jī)上,用50-70um的砂輪研磨磨去300um左右的厚度;再用拋光機(jī)(秀和、NTS、WEC等)針對(duì)不同的研磨盤(錫/銅盤),采用合適的藍(lán)寶石研磨液(水/油性)對(duì)芯片背面拋光,從150nm減至100nm左右。氧化鈰拋光液用于高精密光學(xué)儀器,光學(xué)鏡頭,微晶玻璃基板,晶體表面、集成電路光掩模等方面的精密拋光。江蘇物理拋光液品牌
氧化鈰拋光液。二氧化鈰是玻璃拋光的通用磨削材料。隨著工件尺寸的縮小,傳統(tǒng)的硅容易在尺寸較大的集成電路STI(淺溝隔離)處形成蝶形缺陷。而針對(duì)STI的拋光,選擇合適的拋光液是關(guān)鍵,采用氧化鈰作為研磨顆粒的第二代拋光液,具有高選擇性和拋光終點(diǎn)自動(dòng)停止的特性,配合粗拋和精拋,能拋光液中二氧化鈰的粒度是影響拋光效果的關(guān)鍵參數(shù)之一。目前制備出的二氧化鈰的粒徑多為微米級(jí)或亞微米級(jí),粒度分布不均,粒徑大的溶液產(chǎn)生劃痕,嚴(yán)重影響到被拋光工件的拋光質(zhì)量。因此,納米級(jí)二氧化鈰的制備及應(yīng)用是目前研究的熱點(diǎn)之一。夠十分有效解決代STI工藝缺點(diǎn),是目前重點(diǎn)發(fā)展的產(chǎn)品類型之一。河南鉆石拋光液用途蘇州好的拋光液的公司。
氧化硅拋光液經(jīng)過嚴(yán)格的粒徑控制和專業(yè)的加工工藝。該產(chǎn)品拋光效率高、雜質(zhì)含量低、拋光后容易清洗等特點(diǎn)。產(chǎn)品特點(diǎn):1.分散性好、不結(jié)晶。2.粒徑分布***:5-100nm。3.高純度(Cu2+含量小于50ppb),有效減小對(duì)電子類產(chǎn)品的沾污。4.經(jīng)特殊工藝合成的化學(xué)機(jī)械拋光液,納米顆粒呈球形,單分散,大小均勻,粒徑分布窄,可獲得高質(zhì)量的拋光精度。5.適合與各種拋光墊、合成材料配合拋光使用。使用方法:1.可根據(jù)拋光操作條件用去離子水進(jìn)行5-20倍稀釋。2.稀釋后,粗拋時(shí)調(diào)節(jié)PH至11左右,精拋時(shí)調(diào)節(jié)PH至9.5左右。pH調(diào)節(jié)可以用10%的鹽酸、醋酸、檸檬酸、KOH或氨水在充分?jǐn)嚢柘侣尤搿?.循環(huán)拋光可以用原液。
氧化鋁又稱為剛玉,在摩氏硬度表中位列第9級(jí),具有很大的硬度。又因有六角柱體的晶格結(jié)構(gòu),十分適合再研磨材料。且相對(duì)比鉆石更低廉的價(jià)錢。所以氧化鋁它成為研磨和拋光的好材料。氧化鋁拋光液的特點(diǎn)氧化鋁拋光液具有硬度高、磨削力強(qiáng)、適用范圍廣等優(yōu)點(diǎn)。模氏硬度可達(dá)5500-8000kg/mm2。不易產(chǎn)生劃痕,粒度分布范圍窄,研磨后材料表面質(zhì)量好,粒徑有1.0CR、0.3CR、0.1CR、0.05CR幾種可供選擇。氧化鋁拋光液的應(yīng)用1、電子行業(yè):電子行業(yè)單晶硅片的研磨以及PCB金相切片的研磨;2、裝飾行業(yè):不銹鋼餐具及其它裝飾材料的拋光;3、噴涂材料:等離子噴涂;4、光學(xué)玻璃冷加工。本公司銷售的納米拋光液應(yīng)用范圍:氣相沉積材料、熒光材料、特種玻璃、復(fù)合材料和樹脂材料。
研磨液按其作用機(jī)理分:機(jī)械作用研磨液,化學(xué)機(jī)械作用研磨液。機(jī)械作用的研磨液:以金剛石、B4C等為磨料,通過添加分散劑等方式分散到液體介質(zhì)中,從而形成具有磨削作用的液體,稱為金剛石研磨液、碳化硼研磨液等。磨料在分散液中游離分布,利用磨料硬度比待磨工件硬度大的原理,實(shí)現(xiàn)工件的研磨、減薄。根據(jù)磨料的表面、顆粒大小及研磨液配置、研磨設(shè)備穩(wěn)定性等情況,研磨完成后,工件表面容易留下或大或小的劃痕。所以,機(jī)械作用的研磨液一般用于粗磨,后續(xù)還需要精密研磨拋光。拋光液公司的聯(lián)系方式。廣東硅拋光液廠商
哪家的拋光液性價(jià)比比較高?江蘇物理拋光液品牌
依據(jù)機(jī)械加工原理、半導(dǎo)體材料工程學(xué)、物力化學(xué)多相反應(yīng)多相催化理論、表面工程學(xué)、半導(dǎo)體化學(xué)基礎(chǔ)理論等,對(duì)硅單晶片化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)機(jī)理、動(dòng)力學(xué)控制過程和影響因素研究標(biāo)明,化學(xué)機(jī)械拋光是一個(gè)復(fù)雜的多相反應(yīng),它存在著兩個(gè)動(dòng)力學(xué)過程:(1)拋光首先使吸附在拋光布上的拋光液中的氧化劑、催化劑等與襯底片表面的硅原子在表面進(jìn)行氧化還原的動(dòng)力學(xué)過程。這是化學(xué)反應(yīng)的主體。(2)拋光表面反應(yīng)物脫離硅單晶表面,即解吸過程使未反應(yīng)的硅單晶重新裸露出來的動(dòng)力學(xué)過程。它是控制拋光速率的另一個(gè)重要過程。硅片的化學(xué)機(jī)械拋光過程是以化學(xué)反應(yīng)為主的機(jī)械拋光過程,要獲得質(zhì)量好的拋光片,必須使拋光過程中的化學(xué)腐蝕作用與機(jī)械磨削作用達(dá)到一種平衡。如果化學(xué)腐蝕作用大于機(jī)械拋光作用,則拋光片表面產(chǎn)生腐蝕坑、桔皮狀波紋。如果機(jī)械磨削作用大于化學(xué)腐蝕作用,則表面產(chǎn)生高損傷層。江蘇物理拋光液品牌