廣東Nanoscribe灰度光刻無掩膜激光直寫

德國Nanoscribe公司在2019慕尼黑光博會展LASERWorldofPhotonics上發(fā)布了全新工業(yè)級雙光子灰度光刻微納打印系統(tǒng)QuantumX，并榮獲創(chuàng)新獎。該系統(tǒng)是世界first基于雙光子灰度光刻技術（2GL®）的精密加工微納米打印系統(tǒng)，可應用于折射和衍射微光學。該系統(tǒng)的面世表示著Nanoscribe已進軍現(xiàn)代微加工工業(yè)領域。具有全自動化系統(tǒng)的QuantumX無論從外形或者使用體驗上都更符合現(xiàn)代工業(yè)需求。這項技術的關鍵是在高速掃描下使激光功率調制和動態(tài)聚焦定位達到準同步，這種智能方法能夠輕松控制每個掃描平面的體素大小，并在不影響速度的情況下，使得樣品精密部件能具有出色的形狀精度和超光滑表面。該技術將灰度光刻的性能與雙光子聚合的精確性和靈活性結合，使其同時具備高速打印，完全設計自由度和超高精度的特點。從而滿足了復雜增材制造對于優(yōu)異形狀精度和光滑表面的極高要求。雙光子灰度光刻技術多強大，如需了解詳情請咨詢Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。廣東Nanoscribe灰度光刻無掩膜激光直寫

由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標準材料。所打印的亞微米級別分辨率器件具有特別高的形狀精度，屬于目前市場上易于操作的“負膠”。IP樹脂作為高效的打印材料，是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對優(yōu)化不同光刻膠和應用領域的高級配套軟件，從而簡化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領域的設計迭代周期，包括仿生表面，微光學元件，機械超材料和3D細胞支架等。世界上頭一臺雙光子灰度光刻（2GL®）系統(tǒng)QuantumX實現(xiàn)了2D和2.5D微納結構的增材制造。該無掩模光刻系統(tǒng)將灰度光刻的出色性能與Nanoscribe的雙光子聚合技術的精度和靈活性相結合，從而達到亞微米分辨率并實現(xiàn)對體素大小的超快控制，自動化打印以及特別高的形狀精度和光學質量表面。德國高分辨率灰度光刻微納加工系統(tǒng)Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您揭秘雙光子灰度光刻系統(tǒng)的應用。

將激光照射到光敏材料上以形成納米尺寸的3D打印物體，其中吸收的光的強度特別高。Nanoscribe是一家德國雙光子增材制造系統(tǒng)制造商，2019年6月25日，南極熊從外媒獲悉，該公司近日推出了一款新型的機器QuantumX。該系統(tǒng)使用雙光子光刻技術制造納米尺寸的折射和衍射微光學元件，其尺寸可小至200微米。根據(jù)Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼CSOMichaelThiel博士的說法，“Beers定律對當今的無掩模光刻設備施加了強大的限制，QuantumX采用雙光子灰度光刻技術，克服了這些限制，提供了前所未有的設計自由度和易用性，我們的客戶正在微加工的前沿工作。

微納3D打印其實和與灰度光刻有點相似，但是原理不同，我們常見的微納3D打印技術是雙光子聚合和微納金屬3D打印技術，利用該技術我們理論上可以獲得任意想要的結構，不光是微透鏡陣列結構（如下圖5所示），該方法的優(yōu)勢是可以完全按照設計獲得想要的結構，對于雙光子聚合的微結構，我們需要通過LIGA工藝獲得金屬模具，但是對于微納金屬3D打印獲得的微納米結構可以直接進行后續(xù)的復制工作，并通過納米壓印技術進行復制?；叶裙饪痰木褪抢没叶裙饪萄谀ぐ妫ㄑ谀そ佑|式光刻）或者計算機控制激光束或者電子束劑量從而達到在某些區(qū)域完全曝透，而某些區(qū)域光刻膠部分曝光，從而在襯底上留下3D輪廓形態(tài)的光刻膠結構（如下圖4所示，八邊金字塔結構）。微透鏡陣列也是類似，可以通過劑量分布的控制來控制其輪廓形態(tài)Nanoscribe中國分公司-納糯三維科技（上海）有限公司為您講解灰度光刻的特點和應用。

Nanoscribe成立于2007年，總部位于德國卡爾斯魯厄，擁有卡爾斯魯厄理工學院（KIT）的技術背景和卡爾蔡司公司的支持。經(jīng)過十幾年的不斷研究和成長，Nanoscribe已成為微納米生產的先驅和3D打印市場的帶領者，推動著諸如力學超材料，微納機器人，再生醫(yī)學工程，微光學等創(chuàng)新領域的研究和發(fā)展，并提供優(yōu)化制程方案。全新的QuantumX無掩模光刻系統(tǒng)能夠數(shù)字化制造高精度2維和。作為世界上頭一個雙光子灰度光刻系統(tǒng)，在充分滿足設計自由的同時，一步制造具有光學質量表面以及高形狀精度要求的微光學元件，達到所見即所得。PhotonicProfessionalGT2是全球精度排名頭一位的3D微納打印機。，灰度光刻可以明顯縮短制造時間，提高生產效率。廣東Nanoscribe灰度光刻無掩膜激光直寫

灰度光刻技術可以相當于二元套刻的多次曝光，提高了光刻效率。廣東Nanoscribe灰度光刻無掩膜激光直寫

微納3D打印其實和與灰度光刻有點相似，但是原理不同，我們常見的微納3D打印技術是雙光子聚合和微納金屬3D打印技術，利用該技術我們理論上可以獲得任意想要的結構，不光是微透鏡陣列結構（如下圖5所示），該方法的優(yōu)勢是可以完全按照設計獲得想要的結構，對于雙光子聚合的微結構，我們需要通過LIGA工藝獲得金屬模具，但是對于微納金屬3D打印獲得的微納米結構可以直接進行后續(xù)的復制工作，并通過納米壓印技術進行復制?；叶裙饪痰木褪抢没叶裙饪萄谀ぐ妫ㄑ谀そ佑|式光刻）或者計算機控制激光束或者電子束劑量從而達到在某些區(qū)域完全曝透，而某些區(qū)域光刻膠部分曝光，從而在襯底上留下3D輪廓形態(tài)的光刻膠結構（如下圖4所示，八邊金字塔結構）。微透鏡陣列也是類似，可以通過劑量分布的控制來控制其輪廓形態(tài)。需要注意，灰度光刻方法獲得的微透鏡陣列的表面粗糙度相比于熱回流和噴墨法獲得的透鏡要大的多，約為Ra=100nm，前兩者可以會的Ra=50nm的球面。廣東Nanoscribe灰度光刻無掩膜激光直寫