德國高精度無掩膜光刻3D光刻

QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng)，用于快速原型制作和晶圓級批量生產(chǎn)，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)（2PP）的專業(yè)激光直寫系統(tǒng)，可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計自由度。QuantumXshape可實現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產(chǎn)尤其重要，這對于科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用有著重大意義。全新QuantumXshape作為Nanoscribe工業(yè)級無掩膜光刻系統(tǒng)QuantumX產(chǎn)品系列的第二臺設(shè)備，可實現(xiàn)在25cm2面積內(nèi)打印任何結(jié)構(gòu)，很大程度推動了生命科學，微流體，材料工程學中復雜應(yīng)用的快速原型制作。環(huán)保：無掩膜光刻技術(shù)減少了廢棄物的產(chǎn)生，因為它不需要使用掩膜，減少了掩膜的廢棄和回收問題。德國高精度無掩膜光刻3D光刻

來自德國亞琛工業(yè)大學以及萊布尼茲材料研究所科學家們使用Nanoscribe的3D雙光子無掩模光刻系統(tǒng)以一種全新的方式制作帶有嵌入式3D微流控器件的2D微型通道，該器件的非常重要部件是模擬蜘蛛噴絲頭的復雜噴嘴設(shè)計?？茖W家們運用Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)（2PP）打印微型通道的聚合物母版，并結(jié)合軟光刻技術(shù)做后續(xù)復制工作。隨后，在密閉的微流道中通過芯片內(nèi)3D微納加工技術(shù)直接制作復雜結(jié)構(gòu)噴絲頭。這種集成復雜3D結(jié)構(gòu)于傳統(tǒng)平面微流控芯片的全新方式為微納加工制造打開了新的大門。斯圖加特大學和阿德萊德大學的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學研究中心，共同合作研發(fā)了世界上特別小的3D打印微型內(nèi)窺鏡。該內(nèi)窺鏡所用到的微光學器件寬度只有125微米，可以用于直徑小于半毫米的血管內(nèi)進行內(nèi)窺鏡檢查。而這個精密的微光學器件是通過使用德國Nanoscribe公司的雙光子微納3D打印設(shè)備制作的。微型內(nèi)窺鏡可以幫助檢測人體動脈內(nèi)的斑塊、血栓和膽固醇晶體，因此對于醫(yī)學檢測極其重要，可以有助于減少中風和心臟病發(fā)作的風險。江蘇Nanoscribe無掩膜光刻技術(shù)無掩膜光刻是一種直接將信息轉(zhuǎn)移到襯底上的技術(shù)。

QuantumXshape是一款真正意義上的全能機型?；陔p光子聚合技術(shù)，該激光直寫系統(tǒng)不只是快速成型制作的特別好的機型，同時適用于基于晶圓上的任何亞微米精度的2.5D及3D形狀的規(guī)?；a(chǎn)。QuantumXshape在3D微納加工領(lǐng)域非常出色的精度，比肩于Nanoscribe公司在表面結(jié)構(gòu)應(yīng)用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL®)。全新的QuantumXshape的高精度有賴于其高能力的體素調(diào)制比和超精細處理網(wǎng)格，從而實現(xiàn)亞體素的尺寸控制。此外，受益于雙光子灰度光刻對體素的微調(diào)，該系統(tǒng)在表面微結(jié)構(gòu)的制作上可達到超光滑，同時保持高精度的形狀控制。

Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實現(xiàn)微機械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復合物，或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機電系統(tǒng)（MEMS）。雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級衍射光學元件（DOE），并且滿足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達到亞微米量級。由于需要多次光刻，刻蝕和對準工藝，衍射光學元件（DOE）的傳統(tǒng)制造耗時長且成本高。而利用增材制造即可簡單一步實現(xiàn)多級衍射光學元件，可以直接作為原型使用，也可以作為批量生產(chǎn)母版工具。Nanoscribe的3D無掩模光刻機目前已經(jīng)分布在30多個國家的前沿研究。

QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng)，用于快速原型制作和晶圓級批量生產(chǎn)，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)（2PP）的專業(yè)激光直寫系統(tǒng)，可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計自由度。QuantumXshape可實現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進行高精度3D微納加工。這種效率的提升對于晶圓級批量生產(chǎn)尤其重要，這對于科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用有著重大意義?？偠灾?，該系統(tǒng)拓寬了3D微納加工在多個科研領(lǐng)域和工業(yè)行業(yè)應(yīng)用的更多可能性（如生命科學、材料工程、微流體、微納光學、微機械和微電子機械系統(tǒng)（MEMS）等）。全新QuantumXshape作為Nanoscribe工業(yè)級無掩膜光刻系統(tǒng)QuantumX產(chǎn)品系列的第二臺設(shè)備，可實現(xiàn)在25cm2面積內(nèi)打印任何結(jié)構(gòu)，很大程度推動了生命科學，微流體，材料工程學中復雜應(yīng)用的快速原型制作。QuantumXshape作為具備光敏樹脂自動分配功能的直立式打印系統(tǒng)，非常適合標準6英寸晶圓片工業(yè)批量加工制造。Quantum X 新型超高速無掩模光刻系統(tǒng)的技術(shù)中心是Nanoscribe特別研發(fā)的雙光子灰度光刻技術(shù)（2GL?）。Nanoscribe無掩膜光刻技術(shù)

Nanoscribe的無掩模光刻系統(tǒng)在三維微納制造領(lǐng)域是一個不折不扣的多面手。德國高精度無掩膜光刻3D光刻

Nanoscribe稱，QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)（two-photongrayscalelithography，2GL）的工業(yè)系統(tǒng)，目前該技術(shù)正在申請專利。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合，可生產(chǎn)折射和衍射微光學以及聚合物母版的原型。多層衍射光學元件（diffractiveopticalelement，DOE）可以通過在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來完成，從而減少多層微制造所需的打印時間。Nanoscribe表示，折射微光學也受益于2GL工藝的加工能力，可制作單個光學元件、填充因子高達100%的陣列，以及可以在直接和無掩模工藝中實現(xiàn)各種形狀，如球面和非球面透鏡。QuantumX的軟件能實時控制和監(jiān)控打印作業(yè)，并通過交互式觸摸屏控制面板進行操作。為了更好地管理和安排用戶的項目，打印隊列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè)。該軟件有程序向?qū)?，可在一開始就指導設(shè)計師和工程師完成打印作業(yè)，并能夠接受任意光學設(shè)計的灰度圖像德國高精度無掩膜光刻3D光刻