EMMI 技術(shù)基于半導(dǎo)體器件在工作時因電子 - 空穴復(fù)合產(chǎn)生的光子輻射現(xiàn)象,通過高靈敏度光學(xué)探測器捕捉微弱光子信號,能夠以皮安級電流精度定位漏電、短路等微觀缺陷。這種技術(shù)尤其適用于檢測芯片內(nèi)部的柵極氧化層缺陷、金屬導(dǎo)線短路等肉眼難以察覺的故障,為工程師提供精確的失效位置與成因分析。
熱紅外顯微鏡(Thermal EMMI)則聚焦于器件發(fā)熱與功能異常的關(guān)聯(lián),利用紅外熱成像技術(shù)實時呈現(xiàn)半導(dǎo)體器件的熱分布。在高集成度芯片中,局部過熱可能引發(fā)性能下降甚至損壞,熱紅外顯微鏡通過捕捉0.1℃級別的溫度差異,可快速鎖定因功率損耗、散熱不良或設(shè)計缺陷導(dǎo)致的熱失效隱患。兩者結(jié)合,實現(xiàn)了從電學(xué)故障到熱學(xué)異常的全維度失效診斷,極大提升了分析效率與準(zhǔn)確性。 熱紅外顯微鏡利用其高分辨率,觀察半導(dǎo)體制造過程中的熱工藝缺陷 。檢測用熱紅外顯微鏡方案
熱紅外顯微鏡與光學(xué)顯微鏡雖同屬微觀觀測工具,但在原理、功能與應(yīng)用場景上存在明顯差異,尤其在失效分析等專業(yè)領(lǐng)域各有側(cè)重。
從工作原理看,光學(xué)顯微鏡利用可見光(400-760nm 波長)的反射或透射成像,通過放大樣品的物理形態(tài)(如結(jié)構(gòu)、顏色、紋理)呈現(xiàn)細(xì)節(jié),其主要是捕捉 “可見形態(tài)特征”;而熱紅外顯微鏡則聚焦 3-10μm 波長的紅外熱輻射,通過檢測樣品自身發(fā)射的熱量差異生成熱分布圖,本質(zhì)是捕捉 “不可見的熱信號”。
在主要功能上,光學(xué)顯微鏡擅長觀察樣品的表面形貌、結(jié)構(gòu)缺陷(如裂紋、變形),適合材料微觀結(jié)構(gòu)分析、生物樣本觀察等;熱紅外顯微鏡則專注于微觀熱行為解析,能識別因電路缺陷、材料熱導(dǎo)差異等產(chǎn)生的溫度異常,即使是納米級的微小熱點(如半導(dǎo)體芯片的漏電區(qū)域)也能精確捕捉,這是光學(xué)顯微鏡無法實現(xiàn)的。
從適用場景來看,光學(xué)顯微鏡是通用型觀測工具,廣泛應(yīng)用于基礎(chǔ)科研、教學(xué)等領(lǐng)域;而熱紅外顯微鏡更偏向?qū)I(yè)細(xì)分場景,尤其在半導(dǎo)體失效分析中,可定位短路、虛焊等隱性缺陷引發(fā)的熱異常,在新材料研發(fā)中能分析不同組分的熱傳導(dǎo)特性,為解決 “熱相關(guān)問題” 提供關(guān)鍵依據(jù)。 鎖相熱紅外顯微鏡運(yùn)動熱紅外顯微鏡結(jié)合自研算法,對微弱熱信號進(jìn)行定位分析,鎖定潛在缺陷 。
現(xiàn)市場呈現(xiàn) “國產(chǎn)崛起與進(jìn)口分野” 的競爭格局。進(jìn)口品牌憑借早期技術(shù)積累,在市場仍占一定優(yōu)勢,國產(chǎn)廠商則依托本土化優(yōu)勢快速突圍,通過優(yōu)化供應(yīng)鏈、降低生產(chǎn)成本,在中低端市場形成強(qiáng)競爭力,尤其在工業(yè)質(zhì)檢、電路板失效分析等場景中,憑借高性價比和快速響應(yīng)的服務(wù)搶占份額。同時,國內(nèi)企業(yè)持續(xù)加大研發(fā)投入,在探測器靈敏度、成像分辨率等指標(biāo)上不斷追趕,部分中端產(chǎn)品可以做到超越國際水平,且在定制化解決方案上更貼合本土客戶需求,如針對大尺寸主板檢測優(yōu)化的機(jī)型。隨著國產(chǎn)技術(shù)成熟度提升,與進(jìn)口品牌的競爭邊界不斷模糊,推動整體市場向多元化、高性價比方向發(fā)展。
RTTLITP20 熱紅外顯微鏡憑借多元光學(xué)物鏡配置,構(gòu)建從宏觀到納米級的全尺度熱分析能力,靈活適配多樣檢測需求。Micro廣角鏡頭可快速覆蓋大尺寸樣品整體熱分布,如整塊電路板、大型模組的散熱趨勢,高效完成初步篩查;0.13~0.3x變焦鏡頭通過連續(xù)倍率調(diào)節(jié),適配芯片封裝體、傳感器陣列等中等尺度器件熱分析,兼顧整體熱場與局部細(xì)節(jié);0.65X~0.75X變焦鏡頭提升分辨率,解析芯片內(nèi)部功能單元熱交互,助力定位封裝散熱瓶頸;3x~4x變焦鏡頭深入微米級結(jié)構(gòu),呈現(xiàn)晶體管陣列、引線鍵合點等細(xì)微部位熱分布;8X~13X變焦鏡頭聚焦納米尺度,捕捉微小短路點、漏電流區(qū)域等納米級熱點的微弱熱信號,滿足先進(jìn)制程半導(dǎo)體高精度分析需求。
多段變焦與固定倍率結(jié)合的設(shè)計,實現(xiàn)宏觀到微觀熱分析平滑切換,無需頻繁更換配件,大幅提升半導(dǎo)體失效分析、新材料熱特性研究等領(lǐng)域的檢測效率與精細(xì)度。 國產(chǎn)熱紅外顯微鏡憑借自主研發(fā)軟件,具備時域重構(gòu)等功能,提升檢測效率。
致晟光電——熱紅外顯微鏡在信號調(diào)制技術(shù)上的優(yōu)化升級,以多頻率調(diào)制為突破點,構(gòu)建了更精細(xì)的微觀熱信號解析體系。其通過精密算法控制電信號的頻率切換與幅度調(diào)節(jié),使不同深度、不同材質(zhì)的樣品區(qū)域產(chǎn)生差異化熱響應(yīng) —— 高頻信號可捕捉表層微米級熱點,低頻信號則能穿透材料識別內(nèi)部隱性感熱缺陷,形成多維度熱特征圖譜。
這種動態(tài)調(diào)制方式,不僅將特征分辨率提升至納米級,更通過頻率匹配過濾環(huán)境噪聲與背景干擾,使檢測靈敏度較傳統(tǒng)單頻調(diào)制提高 3-5 倍,即使是 0.1mK 的微小溫度波動也能被捕捉。 熱紅外顯微鏡通過熱成像技術(shù),快速定位 PCB 板上的短路熱點 。國內(nèi)熱紅外顯微鏡成像
熱紅外顯微鏡憑借高靈敏度探測器,實現(xiàn)芯片微米級紅外熱分布觀察,鎖定異常熱點 。檢測用熱紅外顯微鏡方案
RTTLIT P10 熱紅外顯微鏡在光學(xué)配置上的靈活性,可通過多種可選物鏡得以充分體現(xiàn),為不同尺度、不同場景的熱分析需求提供精細(xì)適配。
Micro 廣角鏡頭擅長捕捉大視野范圍的整體熱分布,適合快速定位樣品宏觀熱異常區(qū)域,如整片晶圓的整體散熱趨勢觀測;0.2X 鏡頭在保持一定視野的同時提升細(xì)節(jié)捕捉能力,可用于中等尺寸器件(如傳感器模組)的熱行為分析,平衡效率與精度;0.4X 鏡頭進(jìn)一步聚焦局部,能清晰呈現(xiàn)芯片封裝級的熱分布特征,助力排查封裝缺陷導(dǎo)致的散熱不均問題;1X 與 3X 鏡頭則聚焦微觀尺度,1X 鏡頭可解析芯片內(nèi)部功能模塊的熱交互,3X 鏡頭更是能深入到微米級結(jié)構(gòu)(如晶體管陣列、引線鍵合點),捕捉納米級熱點的細(xì)微溫度波動。
檢測用熱紅外顯微鏡方案
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