閔行區(qū)常規(guī)真空滅弧室設(shè)計(jì)

來源: 發(fā)布時(shí)間:2025-07-22

觸頭系統(tǒng)觸頭是產(chǎn)生電弧、熄滅電弧的部位,對(duì)材料和結(jié)構(gòu)的要求都比較高。4.1 對(duì)觸頭材料有以下要求:1.高開斷能力。要求材料本身的導(dǎo)電率大,熱傳導(dǎo)系數(shù)小,熱容量大,熱電子發(fā)射能力低。2.高擊穿電壓。擊穿電壓高,介質(zhì)恢復(fù)強(qiáng)度就高,對(duì)滅弧有利。3.高的抗電腐蝕性。即經(jīng)得起電弧的燒蝕,金屬蒸發(fā)量少。4.抗熔焊能力。5.低截流電流值,希望在2.5A以下。6.低含氣量。其中低含氣量是對(duì)所有真空滅弧室內(nèi)部所使用材料的要求。特別是銅材,必須要求低含氣量的特殊工藝處理的無氧銅。而焊料等則采用白銀、銅的合金。高擊穿電壓。擊穿電壓高,介質(zhì)恢復(fù)強(qiáng)度就高,對(duì)滅弧有利。閔行區(qū)常規(guī)真空滅弧室設(shè)計(jì)

閔行區(qū)常規(guī)真空滅弧室設(shè)計(jì),真空滅弧室

真空滅弧室按絕緣外殼材料不同可分作,玻璃外殼真空滅弧室(絕緣外殼用玻璃制成)、陶瓷外殼真空滅弧室(絕緣外殼用陶瓷制成)和微晶玻璃外殼真空滅弧室(絕緣外殼用微晶玻璃制成)。 [2]滅弧罩是讓電弧與固體介質(zhì)相接觸以降低電弧溫度,從而加速電弧熄滅的比較常用的裝置。滅弧罩的結(jié)構(gòu)形式多種多樣,但其基本構(gòu)成單元為“縫”。我們將滅弧罩壁與壁之間構(gòu)成的間隙稱作“縫”。根據(jù)縫的數(shù)量可分為單縫和多縫。根據(jù)縫的寬度與電弧直徑之比可分為窄青浦區(qū)定制真空滅弧室對(duì)比價(jià)因而效率低且對(duì)真空滅弧室零件的污染環(huán)節(jié)多。

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導(dǎo)電系統(tǒng)真空滅弧室解剖圖定導(dǎo)電桿、定跑弧面、定觸頭、動(dòng)觸頭、動(dòng)跑弧面、動(dòng)導(dǎo)電桿構(gòu)成了滅弧室的導(dǎo)電系統(tǒng)。其中定導(dǎo)電桿、定跑弧面、定觸頭合稱定電極,動(dòng)觸頭、動(dòng)跑弧面、動(dòng)導(dǎo)電桿合稱動(dòng)電極,由真空滅弧室組裝成的真空斷路器,真空負(fù)荷開關(guān)和真空接觸器合閘時(shí),操動(dòng)機(jī)構(gòu)通過動(dòng)導(dǎo)電桿的運(yùn)動(dòng),使兩觸頭閉合,完成了電路的接通。為了使兩觸頭間的接觸電阻盡可能減小且保持穩(wěn)定和滅弧室承受動(dòng)穩(wěn)定電流時(shí)有良好的機(jī)械強(qiáng)度,真空開關(guān)在動(dòng)導(dǎo)電桿一端設(shè)置有導(dǎo)向套,并使用一組壓縮彈簧,使兩觸頭間保持有一個(gè)額定壓力。當(dāng)真空開關(guān)分?jǐn)嚯娏鲿r(shí),滅弧室兩觸頭分離并在其間產(chǎn)生電弧,直至電流自然過零時(shí)電弧熄滅,便完成了電路的開斷

真空電弧按其電流的大小可分為擴(kuò)散弧和收縮弧兩種。擴(kuò)散弧的電流較?。◣装僦翈浊О才啵藭r(shí)電弧分裂為許多并聯(lián)的支弧。每~支弧有自己的陰極斑點(diǎn)和弧柱,陰極斑點(diǎn)互相排斥且均勻分布在陰極上。在電磁場(chǎng)的作用下陰極斑點(diǎn)不斷地沿左旋方向運(yùn)動(dòng),觸頭表面的平均溫度較低且分布均勻。陽極此時(shí)不存在陽極斑點(diǎn),陰極斑點(diǎn)既發(fā)射電子又產(chǎn)生金屬蒸氣。當(dāng)電流接近于零值時(shí),**終只剩下一個(gè)斑點(diǎn),電流過零時(shí),電弧自行熄滅。當(dāng)擴(kuò)散弧的電流增加到足夠大時(shí),陰極斑點(diǎn)相互聚成一團(tuán),運(yùn)動(dòng)速度很小甚至不再運(yùn)動(dòng):陰極表面不但產(chǎn)生大量的金屬蒸氣,而且有一部分金屬直接以顆?;蛞旱蔚男问较蚧∠秶娚?。真空滅弧室的屏蔽系統(tǒng)主要由屏蔽筒,屏蔽罩和其他零件組成。

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排氣臺(tái)工藝真空滅弧室生產(chǎn)工藝流程是指將真空滅弧室的零件通過釬焊及氬弧焊等工藝制成為待排氣的整管,再連接到排氣臺(tái)進(jìn)行抽真空及烘烤除氣,***進(jìn)行冷夾封口的過程。此工藝,過程復(fù)雜、路線長(zhǎng),一般有9道工序。因而效率低且對(duì)真空滅弧室零件的污染環(huán)節(jié)多。而且,按此工藝生產(chǎn)的真空滅弧室烘烤溫度低(450℃左右),因而除氣不徹底。一次封排工藝是指將真空滅弧室各零件先釬焊成幾個(gè)部件,再將幾個(gè)部件組裝成真空滅弧室整件,然后再在真空爐中完成排氣、烘烤去氣及釬焊封口的過程。此工藝,過程較簡(jiǎn)單,一般有7道工序,因而效率較高且人為污染也較少。此外,按此工藝生產(chǎn)的真空滅弧室烘烤溫度高(800℃~900℃),因而排氣徹底。按此工藝生產(chǎn)的真空滅弧室烘烤溫度高(800℃~900℃),因而排氣徹底。長(zhǎng)寧區(qū)常規(guī)真空滅弧室對(duì)比價(jià)

此工藝,過程簡(jiǎn)單,一般有5道工序,人為環(huán)節(jié)少,過程質(zhì)量穩(wěn)定,但對(duì)封排設(shè)備的要求很高。閔行區(qū)常規(guī)真空滅弧室設(shè)計(jì)

靜磁屏蔽:為了使雜散磁場(chǎng)集中到屏蔽罩殼體上,屏蔽罩應(yīng)具有盡可能高的磁導(dǎo)率。所有磁導(dǎo)率高的軟磁材料,如電磁純鐵、球墨鑄鐵、坡莫合金、硅鋼、軟磁鐵氧體等,原則上都可選用。設(shè)計(jì)上應(yīng)按磁屏要求、價(jià)格、殼體強(qiáng)度、加工性能等,綜合考慮后選定。低頻電磁屏蔽:除屏蔽靜磁外,還需兼屏蔽變化的電磁場(chǎng)。如工頻電磁場(chǎng)等。除要求磁導(dǎo)率高外,還要求電導(dǎo)率高。較理想的材料是坡莫合金,考慮到價(jià)格和加工因素,大的屏蔽罩以電磁純鐵為宜。坡莫合金中含鎳量高于40%時(shí),磁導(dǎo)率和電導(dǎo)率都很好。此外,含鋁15%~16%左右的鐵鋁合金也是常用的磁屏材料。閔行區(qū)常規(guī)真空滅弧室設(shè)計(jì)

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標(biāo)簽: 真空滅弧室 高壓直流接