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選擇mos管的重要參數(shù)

選擇MOS時(shí)至關(guān)重要的2個(gè)參數(shù)是導(dǎo)通電阻Rds(on) 和柵極電荷 Qg。決定 MOSFET 性能的其他一些重要參數(shù)是擊穿電壓、BVDSS 和體漏極二極管，當(dāng)器件用作功率二極管時(shí)必須考慮這些參數(shù)，例如在同步續(xù)流操作模式下，以及可能影響開(kāi)關(guān)時(shí)間和電壓尖峰的固有電容。

1、導(dǎo)通電阻，RDS(on)表示 MOS管 處于導(dǎo)通狀態(tài)時(shí)漏極和源極端子之間的電阻。傳導(dǎo)損耗取決于它，RDS(on) 的值越低，傳導(dǎo)損耗越低。

2、總柵極電荷，QG表示柵極驅(qū)動(dòng)器打開(kāi)/關(guān)閉器件所需的電荷。

3、品質(zhì)因數(shù)，F(xiàn)oM是 RDS(on) 和 QG 的乘積，說(shuō)明了 MOSFET 的傳導(dǎo)損耗和開(kāi)關(guān)損耗。因此，MOS管 的效率取決于 RDS(on) 和 QG。

4、擊穿電壓，BVDSS 功率器件屬于分立器件，單獨(dú)封裝且功能不可拆分；功率IC則通過(guò)集成多個(gè)分立器件與外圍電路形成功能模塊。新能源功率器件MOS產(chǎn)品選型代理品牌

功率場(chǎng)效應(yīng)晶體管及其特性一、 功率場(chǎng)效應(yīng)晶體管是電壓控制器件，在功率場(chǎng)效應(yīng)晶體管中較多采用的是V溝槽工藝，這種工藝生產(chǎn)地管稱(chēng)為VMOS場(chǎng)效應(yīng)晶體管，它的柵極做成V型，有溝道短、耐壓能力強(qiáng)、跨導(dǎo)線(xiàn)性好、開(kāi)關(guān)速度快等優(yōu)點(diǎn)，故在功率應(yīng)用領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用，出現(xiàn)一種更好的叫TMOS管，它是在VMOS管基礎(chǔ)上改進(jìn)而成的，沒(méi)有V形槽，只形成了很短的導(dǎo)通溝槽。二、 功率場(chǎng)效應(yīng)晶體管的基本參數(shù)及符號(hào)1.極限參數(shù)和符號(hào)（1） 漏源極間短路時(shí)，柵漏極間的耐壓VGDS（2） 漏源極間開(kāi)路時(shí)，柵漏極間的耐壓VGSO（3） 柵源極在規(guī)定的偏壓下，漏源極間耐壓VDSX（4） 擊穿電壓BVDS（5） 柵極電流IG（6） 比較大漏電極耗散功率PD（7） 溝道溫度TGH，存儲(chǔ)溫度TSTG2.電氣特性參數(shù)和符號(hào)（1） 柵極漏電電流IGSS（2） 漏極電流IDSS（3） 夾斷電壓VP（4） 柵源極門(mén)檻極電壓VGS（th）（5） 導(dǎo)通時(shí)的漏極電流ID（on）（6） 輸入電容Ciss（7） 反向傳輸電容Crss（8） 導(dǎo)通時(shí)的漏源極間電阻RDS（on）（9） 導(dǎo)通延時(shí)時(shí)間td（on）（10）上升時(shí)間tr（11）截止延時(shí)時(shí)間td（off）（12）下降時(shí)間tf這些參數(shù)反映了功率場(chǎng)效應(yīng)晶體管在開(kāi)關(guān)工作狀態(tài)下的瞬間響應(yīng)特性，在功率場(chǎng)效應(yīng)晶體管用于電機(jī)控制等用途時(shí)特別有用。泰州功率器件MOS產(chǎn)品選型哪里有功率器件，也被稱(chēng)為電力電子器件，簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō)，就是具有處理高電壓、大電流能力的功率型半導(dǎo)體器件.

關(guān)于選擇功率mosfet管的步驟:

1、找出應(yīng)用的所有參數(shù)，例如最大電壓、最大電流和工作溫度。

2、找出電路的總負(fù)載。

3、計(jì)算 MOSFET 所需的峰值電流和峰值負(fù)載。

4、找出系統(tǒng)的效率。

5、計(jì)算有損耗的負(fù)載。

6、增加安全系數(shù)（視操作溫度而定）。

7、檢查設(shè)備是否將作為雙向設(shè)備運(yùn)行。

關(guān)于MOSFET管的選型參數(shù)，這里只是簡(jiǎn)單的帶過(guò)一下，如果想要了解更為詳細(xì)的參數(shù)，歡迎聯(lián)系我們無(wú)錫商甲半導(dǎo)體有限公司，有專(zhuān)業(yè)人員為您提供專(zhuān)業(yè)選型服務(wù)及送樣。

電力二極管：結(jié)構(gòu)和原理簡(jiǎn)單，工作可靠；

晶閘管：承受電壓和電流容量在所有器件中比較高

IGBT：開(kāi)關(guān)速度高，開(kāi)關(guān)損耗小，具有耐脈沖電流沖擊的能力，通態(tài)壓降較低，輸入阻抗高，為電壓驅(qū)動(dòng)，驅(qū)動(dòng)功率??；缺點(diǎn)：開(kāi)關(guān)速度低于電力MOSFET,電壓，電流容量不及GTO

GTR：耐壓高，電流大，開(kāi)關(guān)特性好，通流能力強(qiáng)，飽和壓降低；缺點(diǎn)：開(kāi)關(guān)速度低，為電流驅(qū)動(dòng)，所需驅(qū)動(dòng)功率大，驅(qū)動(dòng)電路復(fù)雜，存在二次擊穿問(wèn)題

GTO：電壓、電流容量大，適用于大功率場(chǎng)合，具有電導(dǎo)調(diào)制效應(yīng)，其通流能力很強(qiáng)；缺點(diǎn)：電流關(guān)斷增益很小，關(guān)斷時(shí)門(mén)極負(fù)脈沖電流大，開(kāi)關(guān)速度低，驅(qū)動(dòng)功率大，驅(qū)動(dòng)電路復(fù)雜，開(kāi)關(guān)頻率低

電力MOSFET：開(kāi)關(guān)速度快，輸入阻抗高，熱穩(wěn)定性好，所需驅(qū)動(dòng)功率小且驅(qū)動(dòng)電路簡(jiǎn)單，工作頻率高，不存在二次擊穿問(wèn)題；缺點(diǎn)：電流容量小，耐壓低，一般只適用于功率不超過(guò)10kW的電力電子裝置。

制約因素：耐壓，電流容量，開(kāi)關(guān)的速度 。 除了保證這些設(shè)備的正常運(yùn)行以外，功率器件還能起到有效的節(jié)能作用。

超結(jié)MOS的特點(diǎn):

1、低導(dǎo)通電阻通過(guò)在縱向結(jié)構(gòu)中引入多個(gè)P型和N型層的超結(jié)設(shè)計(jì)，極大地降低了功率器件的導(dǎo)通電阻，在高電壓應(yīng)用中尤為明顯。

2、高耐壓性傳統(tǒng)MOSFET在提高耐壓的同時(shí)會(huì)增加導(dǎo)通電阻，而超結(jié)結(jié)構(gòu)通過(guò)優(yōu)化電場(chǎng)分布，使其在保持高耐壓的同時(shí)仍能保持較低的導(dǎo)通電阻。

3、高效率超結(jié)MOS具有較快的開(kāi)關(guān)速度和低損耗特性，適用于高頻率、高效率的電力轉(zhuǎn)換應(yīng)用。

4、較低的功耗由于導(dǎo)通電阻和開(kāi)關(guān)損耗的降低，超結(jié)MOS在工作時(shí)的能量損耗也明顯減少，有助于提高系統(tǒng)的整體能效。 插入式封裝與表面貼裝式封裝各有優(yōu)劣，但隨著表面貼裝技術(shù)的進(jìn)步，提供了更多的安裝和散熱解決方案。南通功率器件MOS產(chǎn)品選型近期價(jià)格

MOS管封裝是芯片穩(wěn)定工作的關(guān)鍵，提供保護(hù)、散熱與電氣連接。新能源功率器件MOS產(chǎn)品選型代理品牌

超結(jié)MOS的工藝原理在傳統(tǒng)的高壓MOSFET中，導(dǎo)通電阻隨著器件耐壓的增加呈現(xiàn)出立方關(guān)系增長(zhǎng)，這意味著在高壓下，器件的導(dǎo)通電阻非常高，影響效率。而超結(jié)MOS通過(guò)在漂移區(qū)內(nèi)構(gòu)建縱向的P型和N型層，使得電場(chǎng)在縱向方向上得到優(yōu)化。這種結(jié)構(gòu)可以在保持高耐壓的同時(shí)，大幅降低導(dǎo)通電阻。具體的工藝流程可分為以下幾個(gè)步驟：

1、摻雜與離子注入在超結(jié)MOS的漂移區(qū)，**重要的部分是形成交替的P型和N型摻雜區(qū)。這個(gè)過(guò)程需要精細(xì)的摻雜控制：

（1）離子注入通過(guò)離子注入工藝，分別在器件的漂移區(qū)進(jìn)行P型和N型雜質(zhì)的注入。離子注入的深度和濃度需要非常精確的控制，確保后續(xù)的超結(jié)結(jié)構(gòu)能夠均勻分布。

（2）多次摻雜與注入通常需要多次重復(fù)摻雜和注入過(guò)程，以在漂移區(qū)形成多個(gè)交替的P型和N型區(qū)域。 新能源功率器件MOS產(chǎn)品選型代理品牌

無(wú)錫商甲半導(dǎo)體有限公司成立于2023年8月3日，注冊(cè)地位于無(wú)錫經(jīng)濟(jì)開(kāi)發(fā)區(qū)太湖灣信息技術(shù)產(chǎn)業(yè)園1號(hào)樓908室。公司專(zhuān)注于功率半導(dǎo)體器件的研發(fā)設(shè)計(jì)與銷(xiāo)售，采用Fabless模式開(kāi)發(fā)Trench MOSFET、IGBT等產(chǎn)品，截至2023年12月，公司已設(shè)立深圳分公司拓展華南市場(chǎng) ，并獲評(píng)2024年度科技型中小企業(yè)。

無(wú)錫商甲半導(dǎo)體有限公司利用技術(shù)優(yōu)勢(shì)，以國(guó)內(nèi)***技術(shù)代Trench/SGT產(chǎn)品作為***代產(chǎn)品；產(chǎn)品在FOM性能方面占據(jù)***優(yōu)勢(shì)，結(jié)合先進(jìn)封裝獲得的更高電流密度；打造全系列N/P溝道車(chē)規(guī)級(jí)MOSFET，為日益增長(zhǎng)的汽車(chē)需求助力；打造全系列CSPMOSFET，聚焦SmallDFN封裝；未來(lái)兩年內(nèi)做全硅基產(chǎn)品線(xiàn)并拓展至寬禁帶領(lǐng)域；