多溝槽協(xié)同設(shè)計(jì)與元胞優(yōu)化
為實(shí)現(xiàn)更高功率密度,SGTMOSFET采用多溝槽協(xié)同設(shè)計(jì):1場(chǎng)板溝槽,通過(guò)引入與漏極相連的場(chǎng)板,平衡體內(nèi)電場(chǎng)分布,抑制動(dòng)態(tài)導(dǎo)通電阻(RDS(on))的電流崩塌效應(yīng);2源極接觸溝槽,縮短源極金屬與硅片的接觸距離,降低接觸電阻(Rcontact)3柵極分割溝槽,將柵極分割為多個(gè)單一單元,減少柵極電阻(Rg)和柵極延遲時(shí)間(td)。通過(guò)0.13μm超細(xì)元胞工藝,元胞密度提升50%,RDS(on)進(jìn)一步降低至33mΩ·mm2(100V產(chǎn)品)。 在冷鏈物流的制冷設(shè)備控制系統(tǒng)中,SGT MOSFET 穩(wěn)定控制壓縮機(jī)電機(jī)的運(yùn)行,保障冷鏈環(huán)境的溫度恒定.浙江80VSGTMOSFET規(guī)范大全
在碳中和目標(biāo)的驅(qū)動(dòng)下,SGT MOSFET憑借其高效率、高功率密度特性,成為新能源和電動(dòng)汽車電源系統(tǒng)的關(guān)鍵組件。以電動(dòng)汽車的車載充電器(OBC)為例,其前端AC-DC整流電路需處理3-22kW的高功率,同時(shí)滿足95%以上的能效標(biāo)準(zhǔn)。傳統(tǒng)超級(jí)結(jié)MOSFET雖耐壓較高,但其高柵極電荷(Qg)和開(kāi)關(guān)損耗難以滿足OBC的輕量化需求。相比之下,SGT MOSFET通過(guò)優(yōu)化Cgd和RDS(on)的折衷關(guān)系,在400V母線電壓下可實(shí)現(xiàn)98%的整流效率,同時(shí)將功率模塊體積縮小30%以上。 SOT-23SGTMOSFET銷售方法SGT MOSFET 低功耗特性,延長(zhǎng)筆記本續(xù)航,適配其緊湊空間,便捷辦公。
在電動(dòng)汽車的車載充電器中,SGT MOSFET 發(fā)揮著重要作用。車輛充電時(shí),充電器需將交流電高效轉(zhuǎn)換為直流電為電池充電。SGT MOSFET 的低導(dǎo)通電阻可減少充電過(guò)程中的發(fā)熱現(xiàn)象,降低能量損耗。其良好的散熱性能配合高效的轉(zhuǎn)換能力,能夠加快充電速度,為電動(dòng)汽車用戶提供更便捷的充電體驗(yàn),推動(dòng)電動(dòng)汽車充電技術(shù)的發(fā)展。例如,在快速充電場(chǎng)景下,SGT MOSFET 能夠承受大電流,穩(wěn)定控制充電過(guò)程,避免因過(guò)熱導(dǎo)致的充電中斷或電池?fù)p傷,提升電動(dòng)汽車的實(shí)用性與用戶滿意度,促進(jìn)電動(dòng)汽車市場(chǎng)的進(jìn)一步發(fā)展。
優(yōu)化的電容特性(C<sub>ISS</sub>, C<sub>OSS</sub>, C<sub>RSS</sub>)
SGT MOSFET 的電容參數(shù)(輸入電容 C<sub>ISS</sub>、輸出電容 C<sub>OSS</sub>、反向傳輸電容 C<sub>RSS</sub>)經(jīng)過(guò)優(yōu)化,使其在高頻開(kāi)關(guān)應(yīng)用中表現(xiàn)更優(yōu):C<sub>GD</sub>(米勒電容)降低 → 減少開(kāi)關(guān)過(guò)程中的電壓振蕩和 EMI 問(wèn)題。C<sub>OSS</sub> 降低 → 減少關(guān)斷損耗(E<sub>OSS</sub>),適用于 ZVS(零電壓開(kāi)關(guān))拓?fù)洹<sub>ISS</sub> 優(yōu)化 → 提高柵極驅(qū)動(dòng)響應(yīng)速度,減少死區(qū)時(shí)間。這些特性使 SGT MOSFET 成為 LLC 諧振轉(zhuǎn)換器、圖騰柱 PFC 等高頻高效拓?fù)涞睦硐脒x擇。 SGT MOSFET 得以橫向利用更多外延體積阻擋電壓,降低特征導(dǎo)通電阻,實(shí)現(xiàn)了比普通 MOSFET 低 2 倍以上的內(nèi)阻.
SGT MOSFET 的結(jié)構(gòu)創(chuàng)新在于引入了屏蔽柵。這一結(jié)構(gòu)位于溝槽內(nèi)部,多晶硅材質(zhì)的屏蔽柵極處于主柵極上方。在傳統(tǒng)溝槽 MOSFET 中,電場(chǎng)分布相對(duì)單一,而 SGT MOSFET 的屏蔽柵能夠巧妙地調(diào)節(jié)溝道內(nèi)電場(chǎng)。當(dāng)器件工作時(shí),電場(chǎng)不再是簡(jiǎn)單的三角形分布,而是在屏蔽柵的作用下,朝著更均勻、更高效的方向轉(zhuǎn)變。這種電場(chǎng)分布的優(yōu)化,降低了導(dǎo)通電阻,提升了開(kāi)關(guān)速度。例如,在高頻開(kāi)關(guān)電源應(yīng)用中,SGT MOSFET 能以更快速度切換導(dǎo)通與截止?fàn)顟B(tài),減少能量在開(kāi)關(guān)過(guò)程中的損耗,提高電源轉(zhuǎn)換效率,為電子產(chǎn)品的高效運(yùn)行提供有力支持。SGT MOSFET 可實(shí)現(xiàn)對(duì) LED 燈的恒流驅(qū)動(dòng)與調(diào)光控制通過(guò)電流調(diào)節(jié)確保 LED 燈發(fā)光穩(wěn)定色彩均勻同時(shí)降低能耗.100VSGTMOSFET商家
SGT MOSFET 獨(dú)特的屏蔽柵溝槽結(jié)構(gòu),優(yōu)化了器件內(nèi)部電場(chǎng)分布,相較于傳統(tǒng) MOSFET,大幅提升了擊穿電壓能力.浙江80VSGTMOSFET規(guī)范大全
導(dǎo)通電阻(RDS(on))的工藝突破
SGTMOSFET的導(dǎo)通電阻主要由溝道電阻(Rch)、漂移區(qū)電阻(Rdrift)和封裝電阻(Rpackage)構(gòu)成。通過(guò)以下工藝優(yōu)化實(shí)現(xiàn)突破:1外延層摻雜控制:采用多次外延生長(zhǎng)技術(shù),精確調(diào)節(jié)漂移區(qū)摻雜濃度梯度,使Rdrift降低30%;2極低阻金屬化:使用銅柱互連(CuPillar)替代傳統(tǒng)鋁線鍵合,封裝電阻(Rpackage)從0.5mΩ降至0.2mΩ;3溝道遷移率提升:通過(guò)氫退火工藝修復(fù)晶格缺陷,使電子遷移率提高15%。其RDS(on)在40V/100A條件下為0.6mΩ。 浙江80VSGTMOSFET規(guī)范大全