發(fā)貨地點(diǎn):廣東省深圳市
發(fā)布時(shí)間:2025-04-23
維度光電光束質(zhì)量測量解決方案應(yīng)用場景 Dimension-Labs 方案覆蓋工業(yè)、醫(yī)療、科研等多領(lǐng)域: 工業(yè)制造:高功率激光切割 / 焊接實(shí)時(shí)監(jiān)測,優(yōu)化熱影響區(qū)控制;亞微米光斑檢測保障半導(dǎo)體晶圓劃片良率。 醫(yī)療健康:飛秒激光手術(shù)光斑能量分析,提升角膜切削精度;M 因子模塊校準(zhǔn)醫(yī)用激光設(shè)備光束質(zhì)量。 :解析超快激光傳輸特性,支持新型激光器;高精度參數(shù)測量加速非線性光學(xué)實(shí)驗(yàn)進(jìn)展。 光通信:光纖端面光斑形態(tài)優(yōu)化,保障光器件耦合效率;激光器性能一致性檢測。 新興領(lǐng)域:Bessel 光束能量分布分析助力光鑷系統(tǒng)精度提升;激光育種參數(shù)優(yōu)化推動(dòng)作物改良。 優(yōu)勢: 全場景適配:狹縫式(高功率 / 亞微米)與相機(jī)式(脈沖 / 復(fù)雜光束)組合覆蓋多樣化需求。 智能分析:AI 算法自動(dòng)識別光斑異常,生成標(biāo)準(zhǔn)化報(bào)告。 模塊化擴(kuò)展:支持 M 因子測試、寬光譜適配等功能升級。如何利用光斑分析儀和 M 因子測量模塊評估激光光束的質(zhì)量?光通信光斑分析儀發(fā)展
Dimension-Labs 維度光電相機(jī)式光斑分析儀系列覆蓋 400-1700nm 寬光譜范圍,實(shí)現(xiàn)可見光與近紅外波段光斑的實(shí)時(shí)檢測。其優(yōu)勢包括: 動(dòng)態(tài)分析能力 支持 2D 光斑實(shí)時(shí)成像與 3D 功率分布動(dòng)態(tài)顯示,高幀率(100fps)連續(xù)測量模式可捕捉光斑瞬態(tài)變化,3D 視圖支持任意角度旋轉(zhuǎn)分析,為光學(xué)系統(tǒng)調(diào)試提供直觀數(shù)據(jù)支持。 復(fù)雜光斑適應(yīng)性 基于面陣傳感器技術(shù),可測量非高斯光束(如平頂、貝塞爾光束)及含高階橫模的復(fù)雜光斑,突破傳統(tǒng)掃描式設(shè)備的局限性。 功率調(diào)節(jié) 標(biāo)配 6 片不同衰減率的濾光片(0.1%-100%),通過轉(zhuǎn)輪結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)一鍵切換,可測功率達(dá) 10W/cm,滿足從弱光器件到高功率激光的全量程需求。 科研級擴(kuò)展性 采用模塊化設(shè)計(jì),相機(jī)與濾光片轉(zhuǎn)輪可分離使用。拆卸后的相機(jī)兼容通用驅(qū)動(dòng)軟件,支持科研成像、光譜分析等擴(kuò)展應(yīng)用,實(shí)現(xiàn)工業(yè)檢測與實(shí)驗(yàn)室的一機(jī)多用。近場光斑光斑分析儀光斑測試復(fù)雜或高階橫模的光斑測試系統(tǒng)怎么搭建?
Dimension-Labs 正式發(fā)布符合 ISO11146 標(biāo)準(zhǔn)的 Beamhere 光斑分析解決方案。該系統(tǒng)通過硬件與軟件協(xié)同工作,可測量光斑能量分布、發(fā)散角及 M 因子等參數(shù)。產(chǎn)品內(nèi)置光束整形評估模塊,可對聚焦光斑形態(tài)、準(zhǔn)直系統(tǒng)性能進(jìn)行量化檢驗(yàn)。用戶可根據(jù)需求擴(kuò)展 M 測試功能,實(shí)現(xiàn)光束傳播方向上的束腰位置定位與發(fā)散角動(dòng)態(tài)分析。所有檢測數(shù)據(jù)均通過軟件進(jìn)行智能處理,一鍵生成包含 20 + 參數(shù)的標(biāo)準(zhǔn)化測試報(bào)告。 產(chǎn)品優(yōu)勢: 滿足測試需求的全系列產(chǎn)品 適配所有Beamhere光斑分析儀的M M2因子測試模塊 精心設(shè)計(jì)的分析軟件 軟件真正做到交互友好,簡單易用,一鍵輸出測試報(bào)告。
在激光應(yīng)用領(lǐng)域,高功率光束檢測一直是個(gè)難題。傳統(tǒng)面陣傳感器十分靈敏,在每平方厘米約 10μW 的功率水平下就會(huì)飽和,常規(guī)激光器功率遠(yuǎn)超此強(qiáng)度,不衰減光束不僅無法測量光斑信息,還可能損壞設(shè)備。維度光電為此推出 BeamHere 光斑分析儀系列及適配的高功率光束取樣系統(tǒng)。其掃描狹縫式光斑分析儀采用創(chuàng)新的狹縫物理衰減機(jī)制,可直接測量近 10W 的高功率激光,無需額外衰減片。在此基礎(chǔ)上,還推出單次取樣與雙次取樣兩款衰減配件,可組裝疊加形成多次取樣系統(tǒng)。與合適衰減片搭配,可測功率超 1000W。單次取樣配件型號 DL - LBA - 1,45° 傾斜設(shè)計(jì),取樣率 4% - 5%,有 C 口安裝方式和鎖緊環(huán)結(jié)構(gòu),能測量任意角度入射激光;雙次取樣配件型號 DL - LBA - 2,內(nèi)部緊湊安裝兩片取樣透鏡,取樣率 0.16% - 0.25%,可應(yīng)對 400W 功率光束,多面體結(jié)構(gòu)有多個(gè)支撐安裝孔位。組合安裝配件可進(jìn)一步衰減更高功率激光,大衰減程度達(dá) 10。而且其緊湊結(jié)構(gòu)的取樣光程能滿足聚焦光斑測量需求,單次取樣 68mm,雙次取樣 53mm,為各類激光應(yīng)用場景的檢測提供了方案。光束發(fā)散角測量原理是什么?
維度光電BeamHere 光斑分析儀系列,提供全場景激光光束質(zhì)量分析解決方案。產(chǎn)品覆蓋 190-2700nm 光譜,包括掃描狹縫式和相機(jī)式技術(shù),實(shí)現(xiàn)亞微米至毫米級光斑測量。掃描狹縫式支持 2.5μm-10mm 光斑檢測,具備 0.1μm 分辨率,適用于高功率激光。相機(jī)式提供 400-1700nm 響應(yīng),實(shí)現(xiàn) 2D/3D 成像分析,測量功率范圍 1μW-1W。M 因子測試模塊基于 ISO 11146 標(biāo)準(zhǔn),評估光束質(zhì)量。軟件提供自動(dòng)化分析和標(biāo)準(zhǔn)化報(bào)告。技術(shù)創(chuàng)新包括正交狹縫轉(zhuǎn)動(dòng)輪結(jié)構(gòu)和適應(yīng)復(fù)雜光斑的面陣傳感器。產(chǎn)品適用于光束整形檢驗(yàn)、光鑷系統(tǒng)檢測和準(zhǔn)直監(jiān)測。結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)優(yōu)化,通過 CE/FCC 認(rèn)證,應(yīng)用于多個(gè)領(lǐng)域,助力光束質(zhì)量分析和工藝優(yōu)化。多光斑光束質(zhì)量怎么測?國產(chǎn)化光斑分析儀怎么搭建
光斑分析儀搭配什么 M 因子測量模塊好?光通信光斑分析儀發(fā)展
相機(jī)式與狹縫式光斑分析儀對比指南 光斑分析儀的選擇需基于應(yīng)用場景的光斑尺寸、功率、脈沖特性及形態(tài)復(fù)雜度: 光斑尺寸 ≤55μm → 狹縫式(2.5μm 精度) ≥55μm → 相機(jī)式(10mm 量程) 激光功率 ≥1W → 狹縫式(直接測量近 10W) ≤1W → 相機(jī)式(6 片衰減片適配) 光斑形態(tài) 高斯 / 規(guī)則 → 兩者均可(狹縫式更經(jīng)濟(jì)) 非高斯 / 高階橫模 → 相機(jī)式(保留細(xì)節(jié)) 脈沖特性 需單脈沖分析 → 相機(jī)式(觸發(fā)同步) 連續(xù)或匹配重頻 → 狹縫式(高精度掃描) 推薦組合: 場景:相機(jī)式 + 狹縫式組合,覆蓋全尺寸與復(fù)雜形態(tài) 工業(yè)產(chǎn)線:狹縫式(高功率)+ 相機(jī)式(動(dòng)態(tài)監(jiān)測) 醫(yī)療設(shè)備:相機(jī)式(脈沖激光)+M 模塊(光束質(zhì)量評估) 維度光電 BeamHere 系列提供模塊化解決方案,支持快速切換檢測模式,幫助用戶降**設(shè)備購置成本與檢測周期。光通信光斑分析儀發(fā)展